申请/专利权人：京东方科技集团股份有限公司

申请日：2019-08-26

公开（公告）日：2020-01-10

公开（公告）号：CN110678997A

主分类号：H01L51/52(20060101)

分类号：H01L51/52(20060101);H01L51/56(20060101);H01L27/32(20060101)

优先权：["20190531 CN PCT/CN2019/089421"]

专利状态码：有效-授权

法律状态：2022.12.20#授权;2020.02.11#实质审查的生效;2020.01.10#公开

摘要：提供了一种制造具有显示区域和周边区域的显示基板的方法。所述方法包括：在衬底基板上并且在显示区域中形成多个发光元件；在多个发光元件的远离衬底基板的一侧形成封装层，用于封装多个发光元件；形成绝缘层，其中，绝缘层形成在封装层和衬底基板之间；以及在周边区域中并且在绝缘层的远离衬底基板的一侧形成第一阻挡墙，第一阻挡墙形成实质上围绕第一区域的第一围墙。第一阻挡墙的远离衬底基板的一侧宽于第一阻挡墙的靠近衬底基板的一侧。

主权项：1.一种制造显示基板的方法，所述显示基板具有显示区域和周边区域，所述方法包括：在衬底基板上并且在所述显示区域中形成多个发光元件；在所述多个发光元件的远离所述衬底基板的一侧形成封装层，用于封装所述多个发光元件；形成绝缘层，其中，所述绝缘层形成在所述封装层和所述衬底基板之间；以及在所述周边区域中并且在所述绝缘层的远离所述衬底基板的一侧形成第一阻挡墙，所述第一阻挡墙形成实质上围绕第一区域的第一围墙；其中，所述第一阻挡墙形成为包括与所述绝缘层接触的第一下部和位于所述第一下部的远离所述绝缘层的一侧的第一上部；所述第一上部在所述衬底基板上的正投影覆盖所述第一下部在所述衬底基板上的正投影；并且所述第一阻挡墙形成为使得沿所述第一阻挡墙的从所述周边区域到所述显示区域的宽度方向，所述第一阻挡墙的远离所述衬底基板的一侧宽于所述第一阻挡墙的靠近所述衬底基板的一侧。

全文数据：

权利要求：

百度查询： 京东方科技集团股份有限公司 制造显示基板的方法、显示基板和显示设备

免责声明
1、本报告根据公开、合法渠道获得相关数据和信息，力求客观、公正，但并不保证数据的最终完整性和准确性。
2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。

阅读全文 双屏查看 官方信息 专利公告 收藏专利 下载PDF 下载WORD