申请/专利权人：上海华力微电子有限公司

申请日：2017-03-10

公开（公告）日：2020-01-10

公开（公告）号：CN106910701B

主分类号：H01L21/67(20060101)

分类号：H01L21/67(20060101)

优先权：

专利状态码：有效-授权

法律状态：2020.01.10#授权;2017.07.25#实质审查的生效;2017.06.30#公开

摘要：本发明公开了一种设置开闭侦测装置的处理槽，包括处理内槽、槽盖、气缸，其中，还包括传感器和控制单元，所述气缸包括气缸腔体和气缸活塞，所述气缸活塞相对于所述气缸腔体的移动带动所述槽盖相对于所述处理内槽的活动，从而实现所述处理槽中槽盖的打开或者关闭，所述气缸为两个，分别安装在所述处理槽的两侧，所述传感器分别安装在所述气缸腔体上，用于感应所述气缸活塞即槽盖相对于气缸腔体的位置。本发明提供的一种设置开闭侦测装置的处理槽，具有精确定位槽盖位置，有效降低处理槽碎片率及设备故障率，提高设备利用效率的优良特性。

主权项：1.一种设置开闭侦测装置的处理槽，包括处理内槽、槽盖、气缸，其特征在于，还包括传感器和控制单元，所述气缸包括气缸腔体和气缸活塞，所述气缸活塞可相对于所述气缸腔体往复移动，所述气缸腔体固定在所述处理内槽上，所述气缸活塞固定在所述槽盖上，所述气缸活塞相对于所述气缸腔体的移动带动所述槽盖相对于所述处理内槽的活动，从而实现所述处理槽中槽盖的打开或者关闭，所述气缸为两个，分别安装在所述处理槽的两侧，所述传感器分别安装在所述气缸腔体上远离所述气缸活塞的顶端，用于感应所述气缸活塞即槽盖相对于气缸腔体的位置，所述控制单元和所述传感器连接，根据所述传感器感应到的所述气缸活塞的相对位置，判断所述槽盖是否完全打开或者完全关闭；其中，所述气缸活塞带动所述槽盖移动到完全关闭状态时，所述传感器感应此处位置为完全关闭点，所述气缸活塞带动所述槽盖移动到完全打开状态时，所述传感器感应此处位置为完全打开点，所述完全关闭点和完全打开点存储于所述控制单元中。

全文数据：一种设置开闭侦测装置的处理槽技术领域[0001]本发明属于半导体领域，具体属于一种设置开闭侦测装置的处理槽。背景技术[0002]在半导体生产工艺中，经常需要机械手将一个批次的硅片从一个湿法处理槽搬运到另一个湿法处理槽中，或者需要机械手将硅片搬运进入化学处理槽中进行处理或者清洗，在搬运过程中，处理槽的槽盖会开启和关闭，若机械手在槽盖没有完全打开或者关闭的情况下进行硅片搬运就会导致硅片搬运过程中与槽盖相撞或碰擦的情况，导致硅片碎片。[0003]现有的湿法处理槽搬运硅片的示意图如附图1所示，搬运装置将硅片放入处理槽后，关闭处理槽的槽盖后进行硅片处理，关闭槽盖是为了保证处理槽内的氛围和排气，保证硅片能够被顺利处理，硅片处理完毕后，湿法处理槽的槽盖打开，搬运装置将硅片搬离湿法处理槽。[0004]现有的处理槽如图2所示，在处理槽的一侧安装气缸，并且气缸腔体固定安装在处理内槽上，气缸活塞固定安装在槽盖上，气缸活塞可以相对于气缸腔体做往复运动。通过气缸活塞相对气缸腔体的往复运动带动槽盖的开闭。当气缸活塞相对于气缸腔体的活动位移不能使得槽盖完全打开或完全关闭时，搬运装置搬运的硅片和槽盖会发生碰撞，导致硅片碎片，如附图3所示。[0005]综上所述，精准地定位处理槽的槽盖开闭状态对于硅片的处理工艺具有重要意义。发明内容[0006]本发明所要解决的技术问题是提供一种设置开闭侦测装置的处理槽，具有精确定位槽盖位置，有效降低处理槽碎片率及设备故障率，提高设备利用效率的优良特性。[0007]为了实现上述目的，本发明采用如下技术方案:一种设置开闭侦测装置的处理槽，包括处理内槽、槽盖、气缸，其中，还包括传感器和控制单元，所述气缸包括气缸腔体和气缸活塞，所述气缸活塞可相对于所述气缸腔体往复移动，所述气缸腔体固定在所述处理内槽上，所述气缸活塞固定在所述槽盖上，所述气缸活塞相对于所述气缸腔体的移动带动所述槽盖相对于所述处理内槽的活动，从而实现所述处理槽中槽盖的打开或者关闭，所述气缸为两个，分别安装在所述处理槽的两侧，所述传感器分别安装在所述气缸腔体上，用于感应所述气缸活塞即槽盖相对于气缸腔体的位置，所述控制单元和所述传感器连接，根据所述传感器感应到的所述气缸活塞的相对位置，判断所述槽盖是否完全打开或者完全关闭。[0008]进一步地，所述气缸活塞带动所述槽盖移动到完全关闭状态时，所述传感器感应此处位置为完全关闭点，所述气缸活塞带动所述槽盖移动到完全打开状态时，所述传感器感应此处位置为完全打开点。[0009]进一步地，所述完全关闭点和完全打开点存储于所述控制单元中，并且经过至少5次反复确认位置。[0010]进一步地，所述传感器感应到所述气缸活塞位于上述完全关闭点和完全打开点之间时，此时所述槽盖没有完全打开或者完全关闭。[0011]进一步地，所述传感器感应到所述气缸活塞位于上述完全打开点或者所述气缸活塞远离所述气缸腔体的距离超过完全打开点时，此时所述槽盖处于完全打开状态。[0012]进一步地，所述传感器感应到所述气缸活塞位于上述完全关闭点时，此时所述槽盖处于完全关闭状态。[0013]进一步地，所述传感器为光电传感器，具有检测距离长、响应时间短、分辨率高、非接触式检测以及便于调整的优点，可以精确地定位槽盖的滑动位置。[0014]进一步地，所述传感器安装在所述气缸腔体上远离所述气缸活塞的顶端。[0015]进一步地，所述气缸采用氮气驱动，氮气具有来源丰富，价格低廉，物理化学性能稳定的优点。[0016]进一步地，所述槽盖完全打开或者完全关闭的时候，所述处理内槽中的设备开始运行，所述槽盖没有完全打开或者关闭的时候，所述处理内槽中的设备无法运行，有效防止搬运装置在槽盖没有完全打开或者关闭的状态下进行搬运硅片，从而造成硅片碎片的状况发生。[0017]本发明相比现有技术的有益效果为:通过传感器定位气缸活塞的位置，确保槽盖完全打开或者完全关闭时，处理槽中的硅片方能进行搬运，有效地降低了碎片率。处理槽左右两侧的气缸共同控制槽盖的滑动，使得槽盖的滑动更加平稳。附图说明[0018]图1为现有技术中处理槽搬运硅片示意图。[0019]图2为现有技术中处理槽的结构示意图。[0020]图3为现有技术中处理槽槽盖没有完全打开或关闭时发生的硅片碰撞示意图。[0021]图4为一种设置开闭侦测装置的处理槽的结构示意图。[0022]图中，1处理内槽，2槽盖，31气缸腔体，32气缸活塞，4传感器，5搬运装置。具体实施方式[0023]为使本发明的目的、技术方案和优点更加清楚，下面结合附图对本发明的具体实施方式做进一步的详细说明。[0024]如图4所示，一种设置开闭侦测装置的处理槽，包括处理内槽1、槽盖2、气缸、传感器4和控制单元，气缸包括气缸腔体31和气缸活塞32，气缸活塞32可相对于气缸腔体31往复移动，气缸腔体31固定在处理内槽1上，气缸活塞32固定在槽盖2上，气缸活塞32相对于气缸腔体31的移动带动槽盖2相对于处理内槽1的活动，从而实现处理槽中槽盖2的打开或者关闭，气缸为两个，分别安装在处理槽的两侧，共同控制气缸活塞32以及槽盖2的运动，气缸采用氮气驱动。传感器4分别安装在气缸腔体3丨上远离气缸活塞32的一侧顶端，用于感应气缸活塞32即槽盖2相对于气缸腔体31的位置，控制单元和传感器4连接，根据传感器4感应到的气缸活塞32的相对位置，判断槽盖2所处位置。[0025]气缸活塞32带动槽盖2移动到完全关闭状态时，传感器4感应此处位置为完全关闭点，气缸活塞32带动槽盖2移动到完全打开状态时，传感器4感应此处位置为完全打开点，并将上述完全打开点和完全关闭点存储于控制单元中。存储之后的完全打开点和完全关闭点经过5次以上反复确认，确保存储于控制单元中的完全打开点和完全关闭点对应的槽盖2状态为完全打开或完全关闭。[0026]当传感器4感应到气缸活塞32位于完全打开点时，因为气缸腔体31固定连接在处理内槽上，气缸活塞32固定连接在槽盖2上，此时，槽盖2相对于处理内槽1滑动到完全打开的状态•，当传感器4感应到气缸活塞32远离气缸腔体31的距离超过完全打开点时，此时，槽盖2相对于处理内槽1滑动的距离已经超过完全打开状态时的距离，槽盖2相对于处理内槽1也处于完全打开的状态。因为处理槽处于完全打开状态，控制单元控制处理槽中的设备不工作，只对硅片进行搬入搬出处理，并且被搬运的硅片不会和槽盖2发生碰撞产生碎片。[0027]当传感器4感应到气缸活塞32位于完全打开点和完全关闭点之间时，槽盖2相对于处理内槽1没有完全打开或者关闭，此时，传感器4将感应到的气缸活塞32的位置输送到控制单元，控制单元控制处理槽中的设备不能对硅片进行搬运或者处理，防止硅片和槽盖发生碰撞，也防止处理过程中液体外溅。[0028]当传感器4感应到气缸活塞32位于完全关闭点时，槽盖2相对于处理内槽1完全关闭，此时，传感器4将感应到的气缸活塞32的位置输送到控制单元，控制中心控制处理槽中的设备可以对硅片进行处理，但不能对硅片进行搬运。[0029]以上所述仅为本发明的优选实施例，所述实施例并非用于限制本发明的专利保护范围，因此凡是运用本发明的说明书及附图内容所作的等同结构变化，同理均应包含在本发明所附权利要求的保护范围内。

权利要求：1.一种设置开闭侦测装置的处理槽，包括处理内槽、槽盖、气缸，其特征在于，还包括传感器和控制单元，所述气缸包括气缸腔体和气缸活塞，所述气缸活塞可相对于所述气缸腔体往复移动，所述气缸腔体固定在所述处理内槽上，所述气缸活塞固定在所述槽盖上，所述气缸活塞相对于所述气缸腔体的移动带动所述槽盖相对于所述处理内槽的活动，从而实现所述处理槽中槽盖的打开或者关闭，所述气缸为两个，分别安装在所述处理槽的两侧，所述传感器分别安装在所述气缸腔体上，用于感应所述气缸活塞即槽盖相对于气缸腔体的位置，所述控制单元和所述传感器连接，根据所述传感器感应到的所述气缸活塞的相对位置，判断所述槽盖是否完全打开或者完全关闭。2.根据权利要求1所述的设置开闭侦测装置的处理槽，其特征在于，所述气缸活塞带动所述槽盖移动到完全关闭状态时，所述传感器感应此处位置为完全关闭点，所述气缸活塞带动所述槽盖移动到完全打开状态时，所述传感器感应此处位置为完全打开点。3.根据权利要求2所述的设置开闭侦测装置的处理槽，其特征在于，所述完全关闭点和完全打开点存储于所述控制单元中，并且经过至少5次反复确认位置。4.根据权利要求2所述的设置开闭侦测装置的处理槽，其特征在于，所述传感器感应到所述气缸活塞位于上述完全关闭点和完全打开点之间时，此时所述槽盖没有完全打开或者完全关闭。5.根据权利要求2所述的设置开闭侦测装置的处理槽，其特征在于，所述传感器感应到所述气缸活塞位于上述完全打开点或者所述气缸活塞远离所述气缸腔体的距离超过完全打开点时，此时所述槽盖处于完全打开状态。6.根据权利要求2所述的设置开闭侦测装置的处理槽，其特征在于，所述传感器感应到所述气缸活塞位于上述完全关闭点时，此时所述槽盖处于完全关闭状态。7.根据权利要求1所述的设置开闭侦测装置的处理槽，其特征在于，所述传感器为光电传感器。8.根据权利要求1所述的设置开闭侦测装置的处理槽，其特征在于，所述传感器安装在所述气缸腔体上远离所述气缸活塞的顶端。_9.根据权利要求1所述的设置开闭侦测装置的处理槽，其特征在于，所述气缸采用氮气驱动。10.根据权利要求1所述的设置开闭侦测装置的处理槽，其特征在于，所述槽盖完全打开或者完全关闭的时候，所述处理内槽中的设备开始运行，所述槽盖没有完全打开或者关闭的时候，所述处理内槽中的设备无法运行。

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