申请/专利权人：凸版印刷株式会社

申请日：2018-06-29

公开（公告）日：2020-02-11

公开（公告）号：CN110785703A

主分类号：G03F1/24(20060101)

分类号：G03F1/24(20060101)

优先权：["20170705 JP 2017-132026"]

专利状态码：有效-授权

法律状态：2023.07.21#授权;2020.07.10#实质审查的生效;2020.02.11#公开

摘要：第一实施方式的反射型光掩模坯10具备：基板1、在基板1上形成的反射层2、和在反射层2上形成的光吸收层4。光吸收层4包含氧O相对于锡Sn的原子数比OSn超过1.50且为2.0以下、并且膜厚为25nm以上45nm以下的氧化锡膜。由此，抑制或减轻以远紫外为光源的图案转印用的反射型光掩模的投影效应，提高对半导体基板的转印性能，同时提高光吸收层的耐清洗性。

主权项：1.一种反射型光掩模坯，其用于制作以远紫外线作为光源的图案转印用的反射型光掩模，具备：基板，在所述基板上形成的由多层膜构成的反射层，和在所述反射层上形成的光吸收层，所述光吸收层包含氧O相对于锡Sn的原子数比OSn超过1.50且为2.0以下、并且膜厚为25nm以上45nm以下的氧化锡膜。

全文数据：

权利要求：

百度查询： 凸版印刷株式会社 反射型光掩模坯以及反射型光掩模

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