申请/专利权人:凸版印刷株式会社
申请日:2018-06-29
公开(公告)日:2020-02-11
公开(公告)号:CN110785704A
主分类号:G03F1/24(20060101)
分类号:G03F1/24(20060101);G03F1/54(20060101)
优先权:["20170705 JP 2017-132027"]
专利状态码:在审-实质审查的生效
法律状态:2020.07.10#实质审查的生效;2020.02.11#公开
摘要:第一实施方式的反射型光掩模坯10具备:基板1,在基板1上形成的反射层2,以及在反射层2上形成的、包含膜厚为17nm以上且小于25.0nm的氧化锡膜的光吸收层4。由此,抑制或减轻以远紫外线为光源的图案转印用的反射型光掩模的投影效应,提高对半导体基板的转印性能,并且同时抑制因清洗而产生的图案倒塌。
主权项:1.一种反射型光掩模坯,其用于制作以远紫外线作为光源的图案转印用的反射型光掩模,具备:基板,在所述基板上形成的由多层膜构成的反射层,和在所述反射层上形成的、包含膜厚为17nm以上且小于25.0nm的氧化锡膜的光吸收层。
全文数据:
权利要求:
百度查询: 凸版印刷株式会社 反射型光掩模坯以及反射型光掩模
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