买专利,只认龙图腾
首页 专利交易 科技果 科技人才 科技服务 商标交易 会员权益 IP管家助手 需求市场 关于龙图腾
 /  免费注册
到顶部 到底部
清空 搜索

【发明公布】反射型光掩模坯以及反射型光掩模_凸版印刷株式会社_201880042388.8 

申请/专利权人:凸版印刷株式会社

申请日:2018-06-29

公开(公告)日:2020-02-11

公开(公告)号:CN110785704A

主分类号:G03F1/24(20060101)

分类号:G03F1/24(20060101);G03F1/54(20060101)

优先权:["20170705 JP 2017-132027"]

专利状态码:在审-实质审查的生效

法律状态:2020.07.10#实质审查的生效;2020.02.11#公开

摘要:第一实施方式的反射型光掩模坯10具备:基板1,在基板1上形成的反射层2,以及在反射层2上形成的、包含膜厚为17nm以上且小于25.0nm的氧化锡膜的光吸收层4。由此,抑制或减轻以远紫外线为光源的图案转印用的反射型光掩模的投影效应,提高对半导体基板的转印性能,并且同时抑制因清洗而产生的图案倒塌。

主权项:1.一种反射型光掩模坯,其用于制作以远紫外线作为光源的图案转印用的反射型光掩模,具备:基板,在所述基板上形成的由多层膜构成的反射层,和在所述反射层上形成的、包含膜厚为17nm以上且小于25.0nm的氧化锡膜的光吸收层。

全文数据:

权利要求:

百度查询: 凸版印刷株式会社 反射型光掩模坯以及反射型光掩模

免责声明
1、本报告根据公开、合法渠道获得相关数据和信息,力求客观、公正,但并不保证数据的最终完整性和准确性。
2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解,仅供参考使用,不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。