申请/专利权人：通用电气公司

申请日：2019-07-30

公开（公告）日：2020-02-11

公开（公告）号：CN110777352A

主分类号：C23C16/24(20060101)

分类号：C23C16/24(20060101);C23C16/40(20060101);C23C16/56(20060101);C23C28/00(20060101)

优先权：["20180731 US 16/050,310"]

专利状态码：有效-授权

法律状态：2022.02.25#授权;2020.03.06#实质审查的生效;2020.02.11#公开

摘要：提供了涂层部件及其形成和使用方法。涂层部件包括：具有表面的基底；位于基底表面上的硅基粘合涂层；和位于硅基粘合涂层上的隔离涂层。硅基粘合涂层包含非晶硅相，该非晶硅相中分布有例如，平均尺寸为约0.03μm至约3μm的晶体硅晶粒。非晶硅相可以由纯硅金属形成，或者可以由其中分散有硼、氧和或氮的硅金属形成。

主权项：1.一种涂层部件，其中，所述涂层部件包括：基底，所述基底具有表面；硅基粘合涂层，所述硅基粘合涂层位于所述基底的表面上，其中，所述硅基粘合涂层包含其中分布有晶体硅晶粒的非晶硅相；和隔离涂层，所述隔离涂层位于所述硅基粘合涂层上。

全文数据：

权利要求：

百度查询： 通用电气公司 具有非晶结构的硅粘合涂层及其形成方法

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