申请/专利权人：芝浦机械电子株式会社

申请日：2017-12-27

公开（公告）日：2020-02-14

公开（公告）号：CN108249159B

主分类号：B65G49/06(20060101)

分类号：B65G49/06(20060101)

优先权：["20161228 JP 2016-254564","20171128 JP 2017-227757"]

专利状态码：有效-授权

法律状态：2020.02.14#授权;2018.07.31#实质审查的生效;2018.07.06#公开

摘要：本发明提供能够防止基板弯曲地搬运的浮起搬运装置以及基板处理装置。本发明的浮起搬运装置使基板浮起而进行搬运，其特征在于，夹着基板的搬运路径而具有下侧浮起装置以及上侧浮起装置，构成下侧浮起装置以及上侧浮起装置中的至少任一方的多个浮起块设置间隙地配置，构成另一方的浮起块以与上述间隙对置的方式配置。

主权项：1.一种浮起搬运装置，使基板浮起而进行搬运，其特征在于，夹着上述基板的搬运路径而具有下侧浮起装置以及上侧浮起装置，上述下侧浮起装置以及上述上侧浮起装置都具有多个浮起块，各上述浮起块在与搬运的上述基板对置的面分别具有多个喷出流体的喷出孔和多个吸引上述流体的吸引孔，分别构成上述下侧浮起装置和上述上侧浮起装置的多个上述浮起块在上述基板的搬运方向上设置间隙地配置，构成上述下侧浮起装置的多个上述浮起块之间所具有的上述间隙分别与构成上述上侧浮起装置的某一个上述浮起块对置，构成上述上侧浮起装置的多个上述浮起块之间所具有的上述间隙分别与构成上述下侧浮起装置的某一个上述浮起块对置，上述浮起搬运装置配置为，构成上述下侧浮起装置的多个上述浮起块之间所具有的上述间隙不与构成上述上侧浮起装置的多个上述浮起块之间所具有的上述间隙对置。

全文数据：浮起搬运装置以及基板处理装置技术领域[0001]本发明涉及浮起搬运装置以及基板处理装置。背景技术[0002]在液晶制造装置等中，有时使用在使玻璃制的基板浮起的同时进行搬运的浮起搬运装置。[0003]作为浮起搬运装置的一个例子，已知如下装置:在浮起块的表面上各设置多个气体的喷出孔以及吸引孔，对从各喷出孔喷出的气体的喷出量、以及各吸引孔对气体的吸引量进行调节，由此使基板从浮起块浮起而进行搬运。对所搬运的基板的重量、从浮起块表面起的浮起距离等进行考虑，而决定该气体的喷出量、吸引量。另外，随着基板大型化，还将多个浮起块沿着基板的搬运方向以及与该搬运方向正交的方向排列配置。[0004]有时对所搬运的基板喷淋处理液而进行基板的处理。因此，为了确保供给处理液的喷嘴等的配置空间，在相邻接的浮起块之间设置间隙地配置。[0005]当在相邻接的浮起块之间形成间隙时，在该间隙部分中，对于基板的浮起力消失。因此，有时所搬运的基板的前端弯曲而与浮起块碰撞。基板越薄，该现象越显著地产生。此夕卜，有时不得不使基板的搬运中断。发明内容[0006]因此，本发明的目的在于，提供能够防止基板弯曲地进行搬运的浮起搬运装置以及基板处理装置。[0007]实施方式的基板的浮起搬运装置为，使基板浮起而仅搬运，该浮起搬运装置的特征在于，[0008]夹着上述基板的搬运路径而具有下侧浮起装置以及上侧浮起装置，[0009]构成上述下侧浮起装置以及上述上侧浮起装置中的至少任一方的多个浮起块设置间隙地配置，构成另一方的浮起块以与上述间隙对置的方式配置。[0010]此外，实施方式的基板处理装置为，在使基板浮起而进行搬运的同时对上述基板进行处理，该基板处理装置的特征在于，具有：[0011]浮起搬运装置，具有使上述基板浮起的浮起装置、以及将由上述浮起装置浮起支撑的上述基板沿着搬运方向进行搬运的搬运力赋予机构；以及[0012]处理流体供给机构，对通过上述浮起搬运装置浮起搬运的上述基板供给处理流体，[0013]上述浮起搬运装置为上述浮起搬运装置。[0014]根据本发明，能够防止基板弯曲地进行搬运。附图说明[0015]图1是表示本发明的第一实施方式的基板处理装置的概要的主视图。[0016]图2是图1的基板处理装置所具有的浮起块的概要仰视图。[0017]图3是图2的浮起块的概要部分截面图。[0018]图4是图1的基板处理装置的平面图。[0019]图5是图1的浮起块的主视图。具体实施方式[0020]以下，参照附图对本发明的实施方式的基板处理装置进行说明。[0021]如图1所示那样，本实施方式的基板处理装置100具有浮起搬运装置10、处理液供给装置处理流体供给机构20、30。浮起搬运装置10以基板W的搬运路径为边界而具有下侧浮起装置11、上侧浮起装置12、以及搬运力赋予机构13。[0022]作为下侧浮起装置11、上侧浮起装置12,使用分别通过从表面喷出以及吸引空气等气体、由此使基板W浮起的以往公知的浮起块。[0023]图2表示构成上侧浮起装置12的一个浮起块12a的概要仰视图，图3表示浮起块12a的特别是喷出孔以及吸引孔的部分的概要部分截面图。浮起块12a为立方体，在下面上以有规则的排列状态具有喷出孔a以及吸引孔b，通过从喷出孔a喷出的空气、从吸引孔b吸引的空气、以及基板W的重量等的平衡，对在下方通过的基板W进行浮起支撑。此外，在图2中，对设置有喷出孔a、吸引孔b的各区域（由点划线表示赋予符号a、b，但是在由点划线表示的各区域内配置有喷出孔a、或者吸引孔b在图2中由圆图示）。此外，在图3中，箭头表示空气的流动方向。如图1所示那样，构成该上侧浮起装置12的浮起块12a配置在基板W的搬运面的上方。浮起块12a正好配置在基板W的搬运面的下方，且使以往公知的浮起块12b以上下反转的状态配置。浮起块12a、12b具有的各喷出孔a，经由通路c、未图示的过滤器与鼓风机、压缩机等加压气体供给装置未图示连接，各吸引孔b经由通路d与未图示的泵等气体吸引装置未图示连接。已知在各浮起块12a、12b中，通过从喷出孔a喷出的气体的作用使基板W浮起，并且，通过来自吸引孔b的吸引作用使其具有浮起刚性。[0024]在本实施方式中，构成下侧浮起装置11的多个浮起块12b、以及构成上侧浮起装置12的多个浮起块12a，夹着后述的搬运力赋予机构13对基板W的搬运路径搬运面），成为如下那样的配置关系。在图1中，构成下侧浮起装置11的2个浮起块12b、以及构成上侧浮起装置12的2个浮起块12a，分别沿着基板W的搬运方向A设置。然后，在构成下侧浮起装置11的2个浮起块12b之间、构成上侧浮起装置12的2个浮起块12a之间，在基板W的搬运方向A上均设置同样的间隙而配置。具体地说，成为能够配置处理液供给装置20、30的尺寸的间隙。另外，如图1所示那样，该尺寸是至少能够通过处理液供给装置20、30向基板W供给处理液的尺寸即可。然后，成为构成上侧浮起装置12的2个浮起块12a中的某一个与在构成下侧浮起装置11的2个浮起块12b之间所设置的间隙对置的状态。此外，成为在构成上侧浮起装置12的2个浮起块12a之间设置的间隙与构成下侧浮起装置11的2个浮起块12b中的某一个对置的状态。此外，浮起块12a的下面与浮起块1¾的上面之间的距离例如成为5mm以下。此外，搬运方向A上的基板W的长度，长于一对浮起块12a之间的间隙、一对浮起块12b之间的间隙。[0025]此外，虽然使用图1对上侧浮起装置12以及下侧浮起装置11分别具有的浮起块12a、12b的配置关系进行了说明，但在本实施方式中，如图4所示那样，浮起块12a和12b也可以与所搬运的基板W的大小相匹配，不仅在基板W的搬运方向A上，还在与搬运方向A正交的方向似下，称为“宽度方向”。）上设置有多个在本实施方式中为5个）。在该情况下，之前所述的间隙除了在搬运方向A上形成以外，还沿着上述宽度方向形成，并且，通过根据基板W的大小来对浮起块12a、12b的数量进行调整，由此能够自由地设定宽度方向的长度。此外，在图4中，省略了处理液供给装置20、30、控制部40。[0026]搬运力赋予机构I3用于将相对于浮起块12a、12b以非接触状态浮起状态保持的基板W沿着搬运方向A进行搬运。具体地说，如图4所示那样，具有与基板W的沿着搬运方向A的侧面接触的辊13a。各辊13a由未图示的驱动装置旋转驱动。通过辊13a的旋转，对浮起的基板W赋予向A方向的搬运力。[0027]在图1中，处理液供给装置20、30是将用于对基板ff进行处理的处理液例如纯水）向基板W的表面供给的装置。处理液供给装置20配置于在构成上侧浮起装置12的2个浮起块12a之间形成的间隙，向在下方通过的基板W的表面上面上例如经由喷嘴供给处理液。与此相对，处理液供给装置30配置于在构成下侧浮起装置11的2个浮起块12b之间形成的间隙，向在上方通过的基板W的背面下面例如经由喷嘴供给处理液。在图4的情况下，处理液供给装置20、30例如具有狭缝喷嘴，以便能够向所搬运的基板W的宽度方向的整个区域供给处理液。狭缝喷嘴上所设置的狭缝，沿着基板W的宽度方向延伸，至少具有基板W的宽度方向的尺寸。从该狭缝喷嘴喷出处理液，向所搬运的基板W的表面背面上下面供给处理液。[0028]接下来，说明基板处理装置100对基板W的处理工序。此外，以下所述的动作由控制部40控制。[0029]首先，在浮起块12a以及12b中，开始从喷出孔a喷吹空气的喷出动作、以及吸引孔b对空气的吸引动作。然后，当向基板处理装置1〇〇搬入基板W时，基板W通过浮起搬运装置10的作用而由浮起块12a、12b浮起支撑，并且，通过辅13a的旋转力向A方向搬运。当基板W到达处理液供给装置20的配置位置时，从未图示的狭缝喷嘴向基板W的表面上面供给处理液。此外，当基板W到达处理液供给装置30的配置位置时，从未图示的狭缝喷嘴向基板W的背面下面供给处理液。然后，通过处理液供给装置20、30进行了表面背面的处理的基板W，从基板处理装置100搬出，通过未图示的搬运机构向下一个工序运送。[0030]然而，在图1中，向基板处理装置100搬入的基板W首先由搬入侧的浮起块12a浮起支撑。在图1中，当基板W的前端到达构成上侧浮起装置12的2个浮起块12a的间隙时，不存在与该基板W的前端对置的浮起块12a。然而，如上述那样，成为设置在构成上侧浮起装置12的2个浮起块12a之间的间隙与构成下侧浮起装置11的2个浮起块12b的某一个对置的状态，因此在图1中，到达设置在相邻接的浮起块12a之间的间隙的基板W的前端部分，从下侧浮起装置11的浮起块12b承受浮起力。然后，在所搬运的基板W中，与设置在相邻接的浮起块12a之间的间隙对置的部分，也被从浮起块12b赋予浮起力。[0031]此外，当基板W的前端到达构成下侧浮起装置11的2个浮起块12b的间隙时，不存在与该基板W的前端对置的浮起块12b。然而，如上述那样，成为设置在构成下侧浮起装置11的2个浮起块12b之间的间隙与构成上侧浮起装置12的2个浮起块12a的某一个对置的状态，因此在图1中，到达设置在相邻接的浮起块12b之间的间隙的基板W的前端部分，从上侧浮起装置12的浮起块12a承受浮起力。然后，在所搬运的基板W中，与设置在相邻接的浮起块12b之间的间隙对置的部分，也被从浮起块12a赋予浮起力。[0032]在本实施方式中，为了设置处理液供给装置20、30,而在各浮起块12a之间、各浮起块12b之间设置有间隙，但是也可以构成为，以与设置在构成下侧浮起装置11的2个浮起块12b之间的间隙对置的方式配置构成上侧浮起装置12的浮起块12a，或者，以与设置在构成上侧浮起装置11的2个浮起块12a之间的间隙对置的方式配置构成下侧浮起装置11的浮起块12b。由此，在基板W通过间隙的期间中，也对基板W赋予浮起力。特别是，对于所搬运的基板W中通过上述间隙的部分也持续赋予浮起力。因此，能够防止所搬运的基板W、特别是前端由于自重或者从处理液供给装置2030供给的处理液的加压力，而在形成在相邻接的浮起块12a12b之间的间隙处弯曲，例如弯曲的前端与浮起块12b碰撞而受伤，操作中断而操作效率降低，或者继续进行弯曲状态下的搬运而处理变得不均匀。[0033]在此，参照图5对各浮起块12a、12b的长度关系（例1至例3进行说明。在图5中，将浮起块12a的搬运方向A的长度设为L2,浮起块12b的搬运方向A的长度设为L1，浮起块12a与浮起块12b在搬运方向A1上重叠的长度设为S。[0034]作为例1，L2=L1。在该情况下，作为浮起块12a、12b，能够在上下使用相同的块。此外，作为例2,为上述的例1L2=L1，且S=0以上、[Ll=L22]以下。此外，也可以不是全部S都是相同值。作为例3,为L2=L1X1以上、2以下）。这样的长度关系仅为例示，不限定于上述关系。[0035]此外，在实施方式中，从辊13a的旋转力得到对于由浮起块12a、12b浮起支撑的基板W的搬运力。然而，例如，如果使从浮起块12a、12b的喷出孔a喷出的空气的喷出方向向基板W的搬运方向A倾斜等而得到搬运力，则也可以不特别地设置辊13a。也可以同时使用辊13a〇[0036]此外，设为从浮起块12a、12b的喷出孔a喷出空气，但也可以代替空气而成为氦气等不活性气体，或者代替气体而成为纯水等液体。[0037]此外，在图1所示的实施方式中，为了向基板W的上下面供给处理液，在构成下侧浮起装置11以及上侧浮起装置12的浮起块12a、12b中分别形成了间隙。然而，例如，如果仅向基板W的下面供给处理液，则不需要在构成上侧浮起装置12的浮起块12a之间形成间隙。简要地说，例如在图1中构成为，当在构成下侧浮起装置11以及上侧浮起装置12的至少某一方的浮起块之间形成间隙的配置时，构成另一方的浮起装置的浮起块以与该间隙对置的方式配置即可。[0038]在上述实施方式中，作为处理流体供给机构，例示了应用向基板W供给处理液的处理液供给装置20、30,但是不限定于此，例如，也可以是气体供给装置、以及供给液体以及气体的二流体供给装置。[0039]此外，在上述实施方式中，在分别构成下侧浮起装置11或者上侧浮起装置12的多个浮起块12a之间、12b之间设置了间隙，但其用于将处理液供给装置20、3〇配置于该间隙。但是，作为在浮起块之间沿着基板W的搬运方向设置间隙的理由，并不局限于此，例如，也可以是在相邻接的清洗装置与干燥装置之间搬运基板W时，在两个装置的连接部分、在相邻接的浮起块之间设置间隙的情况，除此以外，也可以为任意理由。

权利要求：1.一种浮起搬运装置，使基板浮起而进彳丁搬运，其特征在于，夹着上述基板的搬运路径而具有下侧浮起装置以及上侧浮起装置，构成上述下侧浮起装置以及上述上侧浮起装置中的至少任一方的多个浮起块设置间隙地配置，构成另一方的浮起块以与上述间隙对置的方式配置。2.如权利要求1所述的浮起搬运装置，其特征在于，构成上述下侧浮起装置的浮起块与构成上述上侧浮起装置的浮起块为，上述基板的搬运方向的长度相同。3.如权利要求1所述的浮起搬运装置，其特征在于，构成上述上侧浮起装置的浮起块相对于构成上述下侧浮起装置的浮起块重叠的长度，在上述基板的搬运方向上为〇以上、且为构成上述下侧浮起装置的浮起块在上述基板的搬运方向上的长度的一半以下。4.如权利要求1至3任一项所述的浮起搬运装置，其特征在于，上述下侧浮起装置以及上述上侧浮起装置，分别由在上述基板的搬运方向上设置间隙地配置的多个浮起块构成，构成上述上侧浮起装置的浮起块，以与上述下侧浮起装置上所设置的上述间隙对置的状态配置。5.—种基板处理装置，在使基板浮起而进行搬运的同时对上述基板进行处理，其特征在于，具有：浮起搬运装置，具有使上述基板浮起的浮起装置、以及将由上述浮起装置浮起支撑的上述基板沿着搬运方向进行搬运的搬运力赋予机构；以及处理流体供给机构，对由上述浮起搬运装置浮起搬运的上述基板供给处理流体，上述浮起搬运装置是权利要求1至4任一项所述的浮起搬运装置。

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