【发明公布】一种减少闪存流片中使用的光罩数量的方法及其应用_合肥恒烁半导体有限公司_201911094242.0 

申请/专利权人:合肥恒烁半导体有限公司

申请日:2019-11-11

发明/设计人:任军;徐培;吕向东;李政达

公开(公告)日:2020-02-18

代理机构:合肥道正企智知识产权代理有限公司

公开(公告)号:CN110808206A

代理人:袁浩

主分类号:H01L21/027(20060101)

地址:230000 安徽省合肥市庐阳区天水路与太和路交口西北庐阳中科大校友创新园11号楼

分类号:H01L21/027(20060101);H01L27/115(20170101)

优先权:

专利状态码:在审-公开

法律状态:2020.02.18#公开

摘要:本发明涉及半导体制造技术领域,公开了一种减少闪存流片中使用的光罩数量的方法及其应用,方法包括采集闪存流片中现有光罩组的各光罩参数,并按照光罩标识号、光罩类型、封膜类型、光罩等级、图形明暗、图形种类参数进行分类,将光罩类型、封膜类型、图形明暗、图形种类参数一致的光罩进行合并,汇同未合并的光罩形成新光罩组,并依次进行光罩制备,并使用制备好的光罩执行包括曝光、显影、光刻在内的后续流片工艺。本发明极大的减少了光罩成本,适用于需要制作少量晶圆情形的新电路的设计开发情况下,可以有效的节约项目的研发成本,本发明具有切实意义上的实用价值。

主权项:1.一种减少闪存流片中使用的光罩数量的方法,其特征在于,包括:采集闪存流片中现有光罩组的各光罩参数,并按照参数进行分类,所述参数包括光罩标识号、光罩类型、封膜类型、光罩等级、图形明暗、图形种类;按照光罩类型、封膜类型、图形明暗、图形种类参数一致性对现有光罩组中的各光罩执行合并操作,形成新光罩组,并依次进行光罩制备;使用制备好的光罩执行包括曝光、显影、光刻在内的后续流片工艺。

全文数据:

权利要求:

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