申请/专利权人：株式会社东芝;东芝电子元件及存储装置株式会社

申请日：2019-02-14

公开（公告）日：2020-03-20

公开（公告）号：CN110896437A

主分类号：H04N5/225(20060101)

分类号：H04N5/225(20060101);H04N5/335(20110101)

优先权：["20180912 JP 2018-170730"]

专利状态码：有效-授权

法律状态：2021.08.03#授权;2020.04.14#实质审查的生效;2020.03.20#公开

摘要：一种拍摄装置，具备半导体基板、设于基板且在沿着基板的表面的第1方向排列的多个像素、设于基板的电荷检测部、多个电荷保持部、输出栅极部及移位栅极部。电荷检测部设在从多个像素的列向第2方向离开的位置。多个电荷保持部设在多个像素的列的电荷检测部侧，经由电荷传输部与多个像素连接。输出栅极部位于电荷检测部与多个电荷保持部间，包括从电荷检测部向朝向多个像素的列的方向以放射状延伸的多个电荷传输沟道。移位栅极部位于多个电荷传输沟道中的沿第3方向延伸的电荷传输沟道和电荷保持部中之间。移位栅极部具有设在半导体基板上的栅电极，栅电极的平面形状包括与电荷传输沟道最接近的边、即与第3方向正交的边。

主权项：1.一种拍摄装置，具备：半导体基板；多个像素，设置于上述半导体基板，在沿着上述半导体基板的表面的第1方向上排列；电荷检测部，设置于上述半导体基板，且设置于从上述多个像素的列向第2方向离开的位置，上述第2方向与上述第1方向正交；多个电荷保持部，设置在上述多个像素的列的上述电荷检测部一侧，并经由电荷传输部与上述多个像素分别连接；输出栅极部，位于上述电荷检测部与上述多个电荷保持部之间，包括从上述电荷检测部沿朝向上述多个像素的列的方向以放射状延伸的多个电荷传输沟道；以及移位栅极部，位于上述多个电荷传输沟道中的沿第3方向延伸的电荷传输沟道与上述多个电荷保持部中的一个电荷保持部之间，上述第3方向与上述第1方向以及上述第2方向交叉，上述移位栅极部具有设置在上述半导体基板上的栅电极，上述栅电极的平面形状中包括与沿上述第3方向延伸的电荷传输沟道最接近且与上述第3方向正交的边。

全文数据：

权利要求：

百度查询： 株式会社东芝;东芝电子元件及存储装置株式会社 拍摄装置

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