买专利,只认龙图腾
首页 专利交易 科技果 科技人才 科技服务 商标交易 会员权益 IP管家助手 需求市场 关于龙图腾
 /  免费注册
到顶部 到底部
清空 搜索

【发明公布】抗蚀剂组合物和图案化方法_信越化学工业株式会社_201910880788.2 

申请/专利权人:信越化学工业株式会社

申请日:2019-09-18

公开(公告)日:2020-03-24

公开(公告)号:CN110908242A

主分类号:G03F7/004(20060101)

分类号:G03F7/004(20060101);G03F7/20(20060101)

优先权:["20180918 JP 2018-173598"]

专利状态码:在审-实质审查的生效

法律状态:2020.04.17#实质审查的生效;2020.03.24#公开

摘要:本发明为抗蚀剂组合物和图案化方法。包含基础聚合物和含有具有碘化的苯环的锍盐的猝灭剂的抗蚀剂组合物提供高感光度、最小的LWR和改进的CDU,而不管其为正色调的还是负色调的。

主权项:1.抗蚀剂组合物,其包含含有具有式1的锍盐的猝灭剂: 其中,R1和R2各自独立地为单键或可以含有醚键、酯键或羟基的C1-C20二价脂族烃基,L1为酯键、醚键或酰胺键,L2和L3各自独立地为单键、酯键、醚键或酰胺键,R3为羟基、羧基、硝基、氰基、氟、氯、溴、氨基或C1-C20烷基、C1-C20烷氧基、C2-C20酰氧基、C2-C20烷氧基羰基或C1-C4烷基磺酰氧基,其可以含有氟、氯、溴、羟基或氨基,或为-NR3A-C=O-R3B或-NR3A-C=O-O-R3B,其中R3A为氢或C1-C6烷基,其可以含有卤素、羟基、C1-C10烷氧基、C2-C10酰基或C2-C10酰氧基,R3B为C1-C16烷基、C2-C16烯基或C6-C12芳基,其可以含有卤素、羟基、C1-C10烷氧基、C2-C10酰基或C2-C10酰氧基,R4为羟基、羧基、硝基、氰基、氟、氯、溴、碘、氨基或C1-C20烷基、C1-C20烷氧基、C2-C20酰氧基、C2-C20烷氧基羰基或C1-C4烷基磺酰氧基,其可以含有氟、氯、溴、碘、羟基、氨基或醚键,R5为可以含有杂原子的C1-C20一价烃基,在r=1的情况下,两个R5可以相同或不同并且可以键合在一起以与它们所连接的硫原子形成环,X-为羧酸阴离子、酰胺酸阴离子、不含氟的磺酸阴离子或卤素离子,m为1至5的整数,n为0至3的整数,m+n之和为1至5,p为0或1,q为0至4的整数,和r为1至3的整数。

全文数据:

权利要求:

百度查询: 信越化学工业株式会社 抗蚀剂组合物和图案化方法

免责声明
1、本报告根据公开、合法渠道获得相关数据和信息,力求客观、公正,但并不保证数据的最终完整性和准确性。
2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解,仅供参考使用,不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。