申请/专利权人：上海东培企业有限公司

申请日：2019-07-31

公开（公告）日：2020-03-24

公开（公告）号：CN210180344U

主分类号：G01B5/06(20060101)

分类号：G01B5/06(20060101);G01B7/30(20060101);G01B21/08(20060101)

优先权：

专利状态码：有效-授权

法律状态：2020.03.24#授权

摘要：本实用新型提供一种高度测量装置，其包括有，平台，用于放置被测物体；杆柱，垂直固定于所述平台；位移记录装置，所述位移记录装置固定到一夹具，所述夹具嵌套固定至所述杆柱，所述位移记录装置用于表示其在所述杆柱上的位移；压力计，所述压力计固定至所述夹具，并包括有一垂直投影到所述平台的上端面的探针。一方面，通过设置压力计参与测量，可以避免因操作人员手感不同而造成的误差，另一方面，本高度测量装置不需要使用光栅尺等贵重器件，降低了装置的成本。

主权项：1.一种高度测量装置，其特征在于，其包括有：平台，用于放置被测物体；杆柱，垂直固定于所述平台；位移记录装置，所述位移记录装置固定到一夹具，所述夹具嵌套固定至所述杆柱，所述位移记录装置用于表示其在所述杆柱上的位移；压力计，所述压力计固定至所述夹具，并包括有一垂直投影到所述平台的上端面的探针。

全文数据：

权利要求：

百度查询： 上海东培企业有限公司 高度测量装置

免责声明
1、本报告根据公开、合法渠道获得相关数据和信息，力求客观、公正，但并不保证数据的最终完整性和准确性。
2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。

阅读全文 双屏查看 官方信息 专利公告 收藏专利 下载PDF 下载WORD