申请/专利权人：河南四方达超硬材料股份有限公司

申请日：2019-05-29

公开（公告）日：2020-04-28

公开（公告）号：CN210414042U

主分类号：B24B31/00(20060101)

分类号：B24B31/00(20060101);B24B31/12(20060101);B24B1/04(20060101);B24B41/06(20120101);B24B47/12(20060101)

优先权：

专利状态码：有效-授权

法律状态：2020.04.28#授权

摘要：本实用新型涉及超硬材料PDC技术领域，具体为一种非平面PDC表面抛光设备，包括动力组件和抛光组件，所述抛光组件包括料仓、端盖和拉杆；料仓两端开设有料仓腔体，两料仓腔体端部均通过端盖配合密封圈封堵，且两端盖之间设有与料仓中段预设的通孔间隙配合的拉杆，拉杆的一端穿过对应的端盖后与动力组件连接；料仓中段于拉杆上方开设有流动通道，流动通道顶部的料仓上开设有抛光孔，流动通道连通两料仓腔体且流动通道的内径小于两料仓腔。本实用新型依靠抛光料的来回挤压式移动，对PDC表面形成摩擦，以达到PDC表面的抛光效果。

主权项：1.一种非平面PDC表面抛光设备，其特征在于，包括动力组件和抛光组件，所述抛光组件包括料仓（7）、端盖（9）和拉杆（11）；料仓两端开设有料仓腔体（15），两料仓腔体（15）端部均通过端盖（9）配合密封圈封堵，且两端盖（9）之间设有与料仓（7）中段预设的通孔间隙配合的拉杆（11），拉杆（11）的一端穿过对应的端盖（9）后与动力组件连接；料仓中段于拉杆（11）上方开设有流动通道，流动通道顶部的料仓（7）上开设有抛光孔，流动通道连通两料仓腔体（15）且流动通道的内径小于两料仓腔体（15）。

全文数据：

权利要求：

百度查询： 河南四方达超硬材料股份有限公司 一种非平面PDC表面抛光设备

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