申请/专利权人:信越化学工业株式会社
申请日:2019-10-23
公开(公告)日:2020-05-01
公开(公告)号:CN111087334A
主分类号:C07C381/12(20060101)
分类号:C07C381/12(20060101);C07D207/28(20060101);C07D209/58(20060101);C07D333/46(20060101);C07D207/273(20060101);G03F7/004(20060101);G03F7/20(20060101)
优先权:["20181024 JP 2018-199659"]
专利状态码:有效-授权
法律状态:2022.03.01#授权;2020.05.29#实质审查的生效;2020.05.01#公开
摘要:本发明为新的鎓盐、化学放大抗蚀剂组合物和图案化方法。提供新的鎓盐和包含其作为PAG的抗蚀剂组合物。当通过使用KrF或ArF准分子激光、EB或EUV的光刻法进行处理时,抗蚀剂组合物的酸扩散降低,曝光裕度、MEF和LWR改善。
主权项:1.具有式1的鎓盐: 其中Z是具有内酰胺结构的单环或多环基团,Rf1至Rf4各自独立地为氢、氟或三氟甲基,Rf1至Rf4中的至少一个为氟或三氟甲基,R1为氢或可含有杂原子的C1-C20一价烃基,R2是可含有杂原子的C1-C20的一价烃基,L1、L2和L3各自独立地为单键、醚键、酯键、磺酸酯键、碳酸酯键或氨基甲酸酯键,L4为醚键、酯键、磺酸酯键、碳酸酯键或氨基甲酸酯键,X1为单键或可含有杂原子的C1-C40二价烃基,n1是0至6的整数,条件是当n1为1且R1不为氢时,R1和R2可以键合在一起以形成环结构,而当n1是至少2的整数且R1不为氢时,两个R1可以键合在一起以形成环结构,并且Q+为鎓阳离子。
全文数据:
权利要求:
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