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【发明公布】鎓盐、负型抗蚀剂组合物和抗蚀剂图案形成方法_信越化学工业株式会社_201911021773.7 

申请/专利权人:信越化学工业株式会社

申请日:2019-10-25

公开(公告)日:2020-05-05

公开(公告)号:CN111100043A

主分类号:C07C311/48(20060101)

分类号:C07C311/48(20060101);C07C321/20(20060101);C07D327/08(20060101);C07C309/31(20060101);G03F7/00(20060101)

优先权:["20181025 JP 2018-200797"]

专利状态码:有效-授权

法律状态:2022.08.09#授权;2020.05.29#实质审查的生效;2020.05.05#公开

摘要:本发明为鎓盐、负型抗蚀剂组合物和抗蚀剂图案形成方法。提供负型抗蚀剂组合物,其包含具有式A的鎓盐和基础聚合物。该抗蚀剂组合物在图案形成期间表现出高分辨率并且形成具有最小LER的图案。

主权项:1.具有式A的鎓盐: 其中R1是可以包含杂原子的C1-C20一价烃基,环R是具有式A1的基团、或其中部分碳可被含有硫、氧或氮的部分替代的具有脂环结构的C6-C30基团, 其中虚线表示价键,R2各自独立地为可含有杂原子的C1-C20一价烃基,n为2至5的整数,Z+是具有式A2的锍阳离子或具有式A3的碘鎓阳离子: 其中R3至R7各自独立地为可含有杂原子的C1-C20一价烃基,R3、R4和R5中的任意两个或更多个可键合在一起以与它们所连接的硫原子形成环。

全文数据:

权利要求:

百度查询: 信越化学工业株式会社 鎓盐、负型抗蚀剂组合物和抗蚀剂图案形成方法

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