申请/专利权人：杨老又

申请日：2020-01-09

公开（公告）日：2020-05-12

公开（公告）号：CN111136576A

主分类号：B24B37/10(20120101)

分类号：B24B37/10(20120101);B24B37/30(20120101);B24B37/34(20120101);B24B47/00(20060101);B24B47/22(20060101)

优先权：

专利状态码：在审-实质审查的生效

法律状态：2020.06.05#实质审查的生效;2020.05.12#公开

摘要：本发明提供一种化学机械平坦化设备，其结构包括旋转电机、抛光盘、转杆、承载器、底支座、支撑柱、承载器调节结构，旋转电机固定安装于承载器调节结构上方通过机械连接，本发明通过设置滑轨结构与滑行器，推动防护壳，使得防护壳带动滑槽架上的滑条在滑板上的滑槽内进行滑动，从而让连接在旋转电机上的承载器随之进行移动，避免承载器上安装的硅片在抛光盘上同一轨迹上进行旋转打磨抛光，致使抛光盘被严重的磨损掉，从而影响抛光的精度，通过设置支板旋转结构，通过左右推动连接支架板，使得固定旋转底支板上的滚动槽内的滚动小球将会在上顶板与连接支座内壁进行滚动，减小其与两端面之间的摩擦力，从而能够快速有效的对连接支架板角度进行调节。

主权项：1.一种化学机械平坦化设备，其结构包括旋转电机1、抛光盘2、转杆3、承载器4、底支座5、支撑柱6、承载器调节结构7，所述旋转电机1固定安装于承载器调节结构7上方通过机械连接，所述抛光盘2下端与转杆3上端相焊接，所述旋转电机1下端与承载器4上端固定连接，所述底支座5上端与支撑柱6下端相焊接，所述承载器调节结构7套合在支撑柱6上且活动连接，所述承载器4位于抛光盘2正上方，其特征在于：所述承载器调节结构7包括滑轨结构71、滑行器72、连接支架板73、支板旋转结构74，所述滑行器72安装于滑轨结构71上且活动连接，所述滑轨结构71焊接于连接支架板73上方，所述支板旋转结构74固定安装于连接支架板73右端。

全文数据：

权利要求：

百度查询： 杨老又 一种化学机械平坦化设备

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