申请/专利权人：株式会社V技术

申请日：2018-11-08

公开（公告）日：2020-05-15

公开（公告）号：CN111164736A

主分类号：H01L21/20(20060101)

分类号：H01L21/20(20060101);H01L21/268(20060101);H01L21/336(20060101);H01L29/786(20060101)

优先权：["20180110 JP 2018-002244"]

专利状态码：失效-发明专利申请公布后的视为撤回

法律状态：2021.07.09#发明专利申请公布后的视为撤回;2020.05.15#公开

摘要：提供一种激光照射装置、及激光照射方法，在对基板上的指定的区域作激光退火的情况时，能够抑制激光的照射所需要的能量。本发明的一实施形态之中的激光照射装置是具备产生激光的光源、及激光头，包含柱面镜，而柱面镜接受激光，在平行于基板的移动方向的方向上产生细线状的激光束，其中激光头对覆膜了非晶硅薄膜的基板的指定的区域照射细线状的激光束，以在该指定的区域形成多晶硅薄膜。

主权项：1.一种激光照射装置，其特征在于，具备：产生激光的光源；及激光头，包含柱面镜，而柱面镜接受所述激光，在平行于基板的移动方向的方向上产生细线状的激光束，其中所述激光头对覆膜了非晶硅薄膜的所述基板的指定的区域照射所述细线状的激光束，以在该指定的区域形成多晶硅薄膜。

全文数据：

权利要求：

百度查询： 株式会社V技术 激光照射装置、及激光照射方法

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