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【发明公布】层叠体、光学构件及光学装置_日东电工株式会社_201880063213.5 

申请/专利权人:日东电工株式会社

申请日:2018-09-28

公开(公告)日:2020-05-19

公开(公告)号:CN111183031A

主分类号:B32B27/30(20060101)

分类号:B32B27/30(20060101);B32B5/18(20060101);B32B27/00(20060101);B32B7/12(20060101);B32B33/00(20060101)

优先权:["20170929 JP 2017-190746","20180926 JP 2018-180954"]

专利状态码:有效-授权

法律状态:2022.12.09#授权;2020.10.23#实质审查的生效;2020.05.19#公开

摘要:本发明的目的在于,提供兼顾粘合力或粘接力、和粘合剂或粘接剂不易向空隙浸透的空隙层与粘合粘接层的层叠体。为了实现上述目的,本发明的第1层叠体的特征在于,包含空隙层20和粘合粘接层30,粘合粘接层30直接层叠于空隙层20的一面或两面,空隙层20的空隙率为35体积%以上,在以温度85℃且相对湿度85%保持500h的加热加湿耐久性试验后,空隙层20的空隙残存率为上述加热加湿耐久性试验前的50体积%以上。

主权项:1.一种层叠体,其包含空隙层和粘合粘接层,所述粘合粘接层直接层叠于所述空隙层的一面或两面,所述空隙层的空隙率为35体积%以上,在将所述层叠体以温度85℃且相对湿度85%保持500h的加热加湿耐久性试验后,所述空隙层的空隙残存率为所述加热加湿耐久性试验前的50体积%以上。

全文数据:

权利要求:

百度查询: 日东电工株式会社 层叠体、光学构件及光学装置

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