申请/专利权人：东京毅力科创株式会社

申请日：2019-11-07

公开（公告）日：2020-05-19

公开（公告）号：CN111172515A

主分类号：C23C16/44(20060101)

分类号：C23C16/44(20060101);C23C16/458(20060101);C23C16/455(20060101)

优先权：["20181107 JP 2018-210060"]

专利状态码：失效-发明专利申请公布后的驳回

法律状态：2023.10.31#发明专利申请公布后的驳回;2021.04.23#实质审查的生效;2020.05.19#公开

摘要：本发明提供一种不对基座造成损伤、利用蚀刻进行清洁的清洁方法和成膜方法。一种清洁方法，其是对设置到成膜装置的处理室内的基座进行干式清洁的清洁方法，其具有如下工序：将保护构件载置于在所述基座设置的基板载置区域的工序；以及在将所述保护构件载置到所述基板载置区域的状态下向所述基座供给清洁气体、利用蚀刻去除在所述基座的表面上堆积的膜的工序。

主权项：1.一种清洁方法，其是对设置到成膜装置的处理室内的基座进行干式清洁的清洁方法，其中，该清洁方法具有如下工序：将保护构件载置于在所述基座设置的基板载置区域的工序；以及在将所述保护构件载置在所述基板载置区域的状态下向所述基座供给清洁气体、利用蚀刻去除在所述基座的表面上堆积的膜的工序。

全文数据：

权利要求：

百度查询： 东京毅力科创株式会社 清洁方法和成膜方法

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