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【发明公布】一种二维直线度和直线位移同时测量干涉装置及测量方法_常州工学院_201911343035.4 

申请/专利权人:常州工学院

申请日:2019-12-24

公开(公告)日:2020-05-19

公开(公告)号:CN111174735A

主分类号:G01B11/27(20060101)

分类号:G01B11/27(20060101);G01B11/02(20060101)

优先权:

专利状态码:失效-发明专利申请公布后的撤回

法律状态:2021.06.04#发明专利申请公布后的撤回;2020.06.12#实质审查的生效;2020.05.19#公开

摘要:本发明涉及光学技术领域,具体为一种二维直线度和直线位移同时测量干涉装置及测量方法,应用于精密定位平台的直线度误差检测和直线位移测量,激光器射出准直光束经过扩束系统后,中心光束由挡板接收,不被挡板遮挡的空心光束经分光平板分为两部分,一部分为参考光,参考光经过四分之一波片后入射至反光镜后原路返回,再经过四分之一波片后经过分光平板后发生透射,后经偏振片,偏振片的透振方向与水平方向成45°;另一部分为测量光,测量光经分光平板后透射部分经过四分之一波片后再经圆锥透镜后发生转角,转角后入射至圆锥面反射镜后原路返回,再次经过圆锥透镜和四分之一波片发生反射,后经偏振片,与参考光发生干涉。

主权项:1.一种二维直线度和直线位移同时测量干涉装置,其特征在于:激光器1射出准直光束经过扩束系统2后,中心光束由挡板3接收,不被挡板3遮挡的空心光束经分光平板4分为两部分,一部分经过四分之一波片8后入射至反光镜9后原路返回,再经过四分之一波片8后经过分光平板4后发生透射,后经偏振片11,偏振片11与水平方向成45°,经过凹透镜12后光束发生发散,光束成像至光电探测器13;孔径光束经分光平板4后透射部分经过四分之一波片5后再经圆锥透镜6后发生转角,转角后入射至圆锥面反射镜7后原路返回,再次经过圆锥透镜6和四分之一波片5发生反射,后经偏振片11,其透射方向与水平方向成45°,后经过凹透镜12,光束成像至光电探测器13上。

全文数据:

权利要求:

百度查询: 常州工学院 一种二维直线度和直线位移同时测量干涉装置及测量方法

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