【发明公布】具有螺旋通道设计的还原剂喷嘴_卡特彼勒公司_201911105947.8 

申请/专利权人:卡特彼勒公司

申请日:2019-11-13

发明/设计人:R·V·曼达;K·L·马丁;P·A·兹瓦特;A·M·丹尼斯

公开(公告)日:2020-05-22

代理机构:北京市中咨律师事务所

公开(公告)号:CN111188672A

代理人:张鲁滨;吴鹏

主分类号:F01N3/20(20060101)

地址:美国伊利诺伊州

分类号:F01N3/20(20060101);F01N3/28(20060101);F01N13/00(20100101)

优先权:["20181115 US 16/192671"]

专利状态码:在审-公开

法律状态:2020.05.22#公开

摘要:本发明涉及具有螺旋通道设计的还原剂喷嘴。一种喷嘴包括第一端和第二端。第一端包括至少第一入口和第二入口,第二端包括多个出口。外表面从喷嘴的第一端延伸到第二端。多个叶片布置在外表面上并从喷嘴的第一端延伸到第二端。沿着喷嘴的外表面形成多个通道。

主权项:1.一种喷嘴,包括:第一端,其包括至少第一入口和第二入口;第二端,包括多个出口;外表面,所述外表面从所述第一端延伸至所述第二端;以及布置在所述外表面上的多个叶片,所述多个叶片从所述第一端延伸至所述第二端,所述多个叶片中的每个叶片沿着所述喷嘴的所述外表面形成多个通道中的相应通道的至少一部分。

全文数据:

权利要求:

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