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【发明公布】蚀刻组合物、形成图案的方法和制造显示装置的方法_三星显示有限公司;株式会社东进世美肯_201911085664.1 

申请/专利权人:三星显示有限公司;株式会社东进世美肯

申请日:2019-11-08

公开(公告)日:2020-05-22

公开(公告)号:CN111187625A

主分类号:C09K13/06(20060101)

分类号:C09K13/06(20060101);H01L27/32(20060101)

优先权:["20181114 KR 10-2018-0140202"]

专利状态码:有效-授权

法律状态:2022.08.19#授权;2021.11.23#实质审查的生效;2020.05.22#公开

摘要:提供一种蚀刻组合物、一种使用该蚀刻组合物形成图案的方法和一种使用该蚀刻组合物制造显示装置的方法。所述蚀刻组合物包括无机酸化合物、羧酸化合物、磺酸化合物、二醇化合物、含氮二羰基化合物、硫酸盐化合物和水。

主权项:1.一种蚀刻组合物,所述蚀刻组合物包括无机酸化合物、羧酸化合物、磺酸化合物、二醇化合物、含氮二羰基化合物、硫酸盐化合物和水。

全文数据:

权利要求:

百度查询: 三星显示有限公司;株式会社东进世美肯 蚀刻组合物、形成图案的方法和制造显示装置的方法

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