【发明公布】曝光装置、曝光方法以及物品的制造方法_佳能株式会社_201911254686.6 

申请/专利权人:佳能株式会社

申请日:2019-12-10

发明/设计人:八講学

公开(公告)日:2020-06-23

代理机构:中国国际贸易促进委员会专利商标事务所

公开(公告)号:CN111324016A

代理人:李今子

主分类号:G03F7/20(20060101)

地址:日本东京

分类号:G03F7/20(20060101)

优先权:["20181214 JP 2018-234713"]

专利状态码:在审-公开

法律状态:2020.06.23#公开

摘要:本发明公开曝光装置、曝光方法以及物品的制造方法。提供有利于提高向基板转印图案的转印性能的曝光装置。提供曝光装置,使用包含第1波长域和第2波长域的多个波长域的光对基板进行曝光,其特征在于,具有:照明光学系统,用光对掩模进行照明;以及投影光学系统,将掩模的图案的像投影到基板,照明光学系统将包括包含至少第1波长域的光且第1波长域的光和第2波长域的光的强度比为第1强度比的第1强度分布和包含至少第2波长域的光且第1波长域的光和第2波长域的光的强度比为与第1强度比不同的第2强度比的第2强度分布的强度分布,以使该强度分布成为4次旋转对称的方式形成于照明光学系统的瞳面。

主权项:1.一种曝光装置,使用包含第1波长域和第2波长域的多个波长域的光对基板进行曝光,其特征在于,具有:照明光学系统,用所述光对掩模进行照明;以及投影光学系统,将所述掩模的图案的像投影到所述基板,所述照明光学系统将包括包含至少所述第1波长域的光且所述第1波长域的光和所述第2波长域的光的强度比为第1强度比的第1强度分布和包含至少所述第2波长域的光且所述第1波长域的光和所述第2波长域的光的强度比为与所述第1强度比不同的第2强度比的第2强度分布的强度分布,以使该强度分布成为4次旋转对称的方式形成于所述照明光学系统的瞳面。

全文数据:

权利要求:

百度查询: 佳能株式会社 曝光装置、曝光方法以及物品的制造方法

vip会员权益升级
价格优惠/年费监控/专利管家/定制微网站 关闭