申请/专利权人:株式会社LG化学
申请日:2018-11-23
公开(公告)日:2020-06-26
公开(公告)号:CN111344635A
主分类号:G03F7/11(20060101)
分类号:G03F7/11(20060101);G03F7/16(20060101);G03F1/60(20060101)
优先权:["20171124 KR 10-2017-0158103"]
专利状态码:在审-实质审查的生效
法律状态:2020.07.21#实质审查的生效;2020.06.26#公开
摘要:本申请涉及用于生产基板的方法。本申请的用于生产基板的方法可以均匀地形成具有根据期望的单元间隙的高度的间隔物,并且还可以自由地控制所述间隔物的高度。
主权项:1.一种用于生产基板的方法,包括使形成在基板基础层的表面上的光敏树脂组合物层曝光并显影以生产间隔物的步骤,其中形成在所述基板基础层的表面上的所述光敏树脂组合物层包含光敏树脂和珠。
全文数据:
权利要求:
免责声明
1、本报告根据公开、合法渠道获得相关数据和信息,力求客观、公正,但并不保证数据的最终完整性和准确性。
2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解,仅供参考使用,不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。