申请/专利权人：佳能株式会社

申请日：2018-10-16

公开（公告）日：2020-06-30

公开（公告）号：CN111356955A

主分类号：G03F7/20(20060101)

分类号：G03F7/20(20060101);G02B5/00(20060101);G02B7/02(20060101)

优先权：["20171024 JP 2017-205644","20180802 JP 2018-146251"]

专利状态码：失效-发明专利申请公布后的视为撤回

法律状态：2023.09.15#发明专利申请公布后的视为撤回;2020.07.24#实质审查的生效;2020.06.30#公开

摘要：一种曝光装置，包括：投影光学系统，该投影光学系统将曝光光投影到基板上以在基板上形成图案；遮光构件，包括允许由基板反射的光通过的开口；以及光接收元件，接收在由基板反射之后通过开口的光束，其中，根据由光接收元件接收到的光量来执行改变散焦量的聚焦控制。

主权项：1.一种曝光装置，包括：投影光学系统，被配置成将用于在基板上形成图案的曝光光投影到基板上；遮光构件，具有用于允许由基板反射的光通过的开口；以及光接收元件，被配置成接收在由基板反射之后通过开口的光束，其中，根据由光接收元件接收到的光量，执行用于改变表示曝光光的会聚位置与基板之间的位置偏差的散焦量的聚焦控制。

全文数据：

权利要求：

百度查询： 佳能株式会社 曝光装置和物品制造方法

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