申请/专利权人：科磊股份有限公司

申请日：2015-03-30

公开（公告）日：2020-06-30

公开（公告）号：CN106164733B

主分类号：G02B15/14(20060101)

分类号：G02B15/14(20060101);H04N7/18(20060101)

优先权：["20140331 US 61/973,151"]

专利状态码：有效-授权

法律状态：2020.06.30#授权;2017.04.19#实质审查的生效;2016.11.23#公开

摘要：本发明提供有关具有在第一方向上以第一间距重复的元件的周期性结构的目标设计及方法。所述元件沿垂直于所述第一方向的第二方向以第二间距为周期，且在所述第二方向上的特征为具有所述第二间距的交替的对焦点敏感及对焦点不敏感的图案。在所产生目标中，所述第一间距可为大约装置间距，且所述第二间距可为数倍大。所述第一对焦点不敏感的图案可经产生以产出第一临界尺寸，且所述第二对焦点敏感的图案可经产生以产出第二临界尺寸，仅在满足指定焦点要求时，所述第二临界尺寸才可等于所述第一临界尺寸，或基于沿所述垂直方向的所述较长间距提供零以及第一衍射级的散射术测量。

主权项：1.一种包括目标设计的产品，其包括：包含多个元件的多个结构，其中所述多个结构基于在沿第一轴的第一方向上的第一间距被布置，其中所述多个元件基于在沿第二轴的第二方向上的第二间距被布置，所述第二轴大体上垂直于所述第一轴，其中所述多个元件包含布置为对焦点不敏感的图案的多个对焦点不敏感的元件，其中所述第二间距包含所述多个对焦点不敏感元件中的相邻的对焦点不敏感的元件之间的空间距离，其中所述多个元件包含布置为对焦点敏感的图案的多个对焦点敏感的元件，其中所述多个对焦点敏感的元件的集合定位于所述多个对焦点不敏感的元件中的相邻的对焦点不敏感的元件之间，其中定位于所述多个对焦点不敏感的元件中的相邻的对焦点不敏感的元件之间的所述多个对焦点敏感的元件的所述集合基于第三间距被布置，其中所述第三间距包含小于所述第二间距的所述空间距离的空间距离。

全文数据：

权利要求：

百度查询： 科磊股份有限公司 使用散射术计量的焦点测量

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