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【发明公布】一种工艺腔室_北京北方华创微电子装备有限公司_202010075561.3 

申请/专利权人:北京北方华创微电子装备有限公司

申请日:2020-01-22

公开(公告)日:2020-07-03

公开(公告)号:CN111364021A

主分类号:C23C16/455(20060101)

分类号:C23C16/455(20060101);H01L21/67(20060101)

优先权:

专利状态码:有效-授权

法律状态:2022.07.22#授权;2020.07.28#实质审查的生效;2020.07.03#公开

摘要:本发明提供一种工艺腔室,所述工艺腔室包括腔室顶盖、腔室底壁、环形侧壁和承载台,所述环形侧壁和承载台均位于腔室顶盖与腔室底壁之间,所述环形侧壁朝向所述腔室顶盖的一侧具有导气平面,所述导气平面与所述腔室顶盖之间具有换气间隙,所述环形侧壁的导气平面上具有成对设置的引导件,且每一个引导件都具有导向平面,同一对引导件的导向平面相对设置,以在承载台的承载面与腔室顶盖之间形成导向通道,所述导向通道的两端分别通过换气间隙与工艺腔室的外部连通。在本发明中,工艺气体经过所述导向通道时,工艺气体的气流方向与所述导向通道两侧的导向平面之间几乎不存在夹角,更容易形成平行、稳定的气流场,进而提高半导体工艺的均匀性。

主权项:1.一种用于外延工艺的工艺腔室,其特征在于,所述工艺腔室包括腔室顶盖、腔室底壁、环形侧壁、以及用于承载基片的承载台,所述环形侧壁和所述承载台均位于所述腔室顶盖与所述腔室底壁之间,所述环形侧壁朝向所述腔室顶盖的一侧具有导气平面,所述环形侧壁的导气平面与所述腔室顶盖之间具有换气间隙,所述环形侧壁的导气平面上具有成对设置的引导件,且每一个所述引导件都具有导向平面,同一对所述引导件的导向平面相对设置,以在所述承载台的承载面与所述腔室顶盖之间形成导向通道,所述导向通道的两端分别通过所述换气间隙与所述工艺腔室的外部连通。

全文数据:

权利要求:

百度查询: 北京北方华创微电子装备有限公司 一种工艺腔室

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