申请/专利权人：广东国华新材料科技股份有限公司

申请日：2020-03-06

公开（公告）日：2020-07-03

公开（公告）号：CN111370818A

主分类号：H01P1/20(20060101)

分类号：H01P1/20(20060101);H01P11/00(20060101)

优先权：

专利状态码：失效-发明专利申请公布后的驳回

法律状态：2022.06.17#发明专利申请公布后的驳回;2020.07.28#实质审查的生效;2020.07.03#公开

摘要：本申请公开了一种容性耦合结构和介质滤波器，其中容性耦合结构包括：开设于介质滤波器顶面上的第一盲孔和第二盲孔；第一盲孔和第二盲孔连接且呈T型分布；第一盲孔的深度和第二盲孔的深度不相同。现有的介质滤波器中图案开窗的耦合方式，该方式是在介质谐振腔异块之间的耦合，在加工的过程中需要进行产品、图案开窗的结合等，加工过程复杂，而本申请中的介质滤波器，直接在介质滤波器上设置该容性耦合结构，相较于现有图案开窗的方式，不再需要产品或图案开窗之间的结合，加工过程简单，从而解决了现有介质滤波器的容性耦合方式加工复杂的技术问题。

主权项：1.一种容性耦合结构，其特征在于，包括：开设于介质滤波器顶面上的第一盲孔和第二盲孔；所述第一盲孔和所述第二盲孔连接且呈T型分布；所述第一盲孔的深度和所述第二盲孔的深度不相同。

全文数据：

权利要求：

百度查询： 广东国华新材料科技股份有限公司 一种容性耦合结构和介质滤波器

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