申请/专利权人:深圳市华星光电半导体显示技术有限公司
申请日:2020-03-17
公开(公告)日:2020-07-03
公开(公告)号:CN111370311A
主分类号:H01L21/336(20060101)
分类号:H01L21/336(20060101);H01L29/786(20060101)
优先权:
专利状态码:有效-授权
法律状态:2021.08.03#授权;2020.07.28#实质审查的生效;2020.07.03#公开
摘要:本申请公开了一种显示面板及其制备方法,所述显示面板的制备方法包括以下步骤:栅极层制备步骤、有源层制备步骤、刻蚀阻挡层制备步骤以及源漏极层制备步骤,所述有源层制备步骤包括半导体层制备步骤以及第一图案化处理步骤。本发明的技术效果在于,通过重复使用源漏极光罩,搭配Liftoff技术,实现具有蚀刻阻挡层器件的制备,降低掩膜板成本。
主权项:1.一种显示面板的制备方法,其特征在于,包括以下步骤:栅极层制备步骤,在一基板的上表面依次制备出栅极层及栅极绝缘层;有源层制备步骤,在所述栅极绝缘层的上表面制备出有源层;所述有源层制备步骤包括半导体层制备步骤以及第一图案化处理步骤;刻蚀阻挡层制备步骤,在所述有源层的上表面制备出刻蚀阻挡层;以及源漏极层制备步骤,在所述刻蚀阻挡层的上表面制备出源漏极层。
全文数据:
权利要求:
百度查询: 深圳市华星光电半导体显示技术有限公司 显示面板及其制备方法
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