申请/专利权人：株式会社德山;日本电子株式会社

申请日：2019-06-11

公开（公告）日：2020-07-03

公开（公告）号：CN111372915A

主分类号：C07C281/06(20060101)

分类号：C07C281/06(20060101)

优先权：["20180612 JP 2018-112193"]

专利状态码：有效-授权

法律状态：2021.01.01#授权;2020.07.28#实质审查的生效;2020.07.03#公开

摘要：本发明提供以简便的方法高收率地制造高纯度、高品质的氨基脲化合物的方法。用含有卤素系烃的溶剂将氨基脲化合物重结晶。作为卤素系烃，优选二氯甲烷。

主权项：1.氨基脲化合物的制造方法，其包括用包含卤素系烃的溶剂使下述式1表示的氨基脲化合物重结晶的重结晶工序，[化学式1] 式1中，R1为有机基团，R2为选自由可含有氧原子的、碳原子数为1～20的、烷基、芳烷基及取代苯基组成的组中的基团。

全文数据：

权利要求：

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