申请/专利权人:武汉华星光电技术有限公司
申请日:2020-03-27
公开(公告)日:2020-07-03
公开(公告)号:CN111370429A
主分类号:H01L27/12(20060101)
分类号:H01L27/12(20060101);H01L21/77(20170101)
优先权:
专利状态码:失效-发明专利申请公布后的驳回
法律状态:2022.10.28#发明专利申请公布后的驳回;2020.07.28#实质审查的生效;2020.07.03#公开
摘要:本发明涉及一种显示面板的制备方法、显示面板,通过曝光、蚀刻工艺在所述缓冲层上设置沟槽,将所述缓冲层分隔成相互独立的单元,使得缓冲层之上的栅极绝缘层、介电层以及钝化层由连续成膜转换为在相互独立的缓冲层上成膜,从而减小栅极绝缘层、介电层以及钝化层的薄膜面积,从而减小独立单元内积累的异质界面应力,以有效防止玻璃基板产生形变,保护玻璃基板,减少破片现象,提高制程可靠性和良品率。
主权项:1.一种显示面板的制备方法,其特征在于,包括:提供一玻璃基板,将所述玻璃基板区分为至少两个显示面板区域以及相邻两个显示面板区域之间的连接区域;在所述玻璃基板上制备一缓冲层;在所述连接区域的缓冲层上设置至少一沟槽;以及在所述缓冲层上制备至少一膜层,且延伸至所述沟槽内。
全文数据:
权利要求:
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