申请/专利权人:ASML荷兰有限公司
申请日:2018-11-05
公开(公告)日:2020-07-03
公开(公告)号:CN111373324A
主分类号:G03F1/62(20060101)
分类号:G03F1/62(20060101)
优先权:["20171106 EP 17200069.7","20180622 EP 18179205.2"]
专利状态码:在审-实质审查的生效
法律状态:2020.11.24#实质审查的生效;2020.07.03#公开
摘要:用于光刻设备的表膜及其制造方法,其中,该表膜包括氮化金属硅化物或氮化硅。还公开了氮化金属硅化物或氮化硅表膜在光刻设备中的用途。还公开了用于光刻设备的表膜,该表膜包括至少一个补偿层,该补偿层被选择并配置为抵消在暴露于EUV辐射时该表膜的透射率的变化;以及控制该表膜的透射率的方法和设计表膜的方法。
主权项:1.一种用于光刻设备的表膜,其中,所述表膜包括氮化金属硅化物或氮化硅。
全文数据:
权利要求:
百度查询: ASML荷兰有限公司 用于降低应力的金属硅氮化物
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