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【发明公布】用于降低应力的金属硅氮化物_ASML荷兰有限公司_201880071768.4 

申请/专利权人:ASML荷兰有限公司

申请日:2018-11-05

公开(公告)日:2020-07-03

公开(公告)号:CN111373324A

主分类号:G03F1/62(20060101)

分类号:G03F1/62(20060101)

优先权:["20171106 EP 17200069.7","20180622 EP 18179205.2"]

专利状态码:在审-实质审查的生效

法律状态:2020.11.24#实质审查的生效;2020.07.03#公开

摘要:用于光刻设备的表膜及其制造方法,其中,该表膜包括氮化金属硅化物或氮化硅。还公开了氮化金属硅化物或氮化硅表膜在光刻设备中的用途。还公开了用于光刻设备的表膜,该表膜包括至少一个补偿层,该补偿层被选择并配置为抵消在暴露于EUV辐射时该表膜的透射率的变化;以及控制该表膜的透射率的方法和设计表膜的方法。

主权项:1.一种用于光刻设备的表膜,其中,所述表膜包括氮化金属硅化物或氮化硅。

全文数据:

权利要求:

百度查询: ASML荷兰有限公司 用于降低应力的金属硅氮化物

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