申请/专利权人：东京毅力科创株式会社

申请日：2018-11-16

公开（公告）日：2020-07-03

公开（公告）号：CN111373510A

主分类号：H01L21/302(20060101)

分类号：H01L21/302(20060101)

优先权：["20171130 JP 2017-230140"]

专利状态码：有效-授权

法律状态：2023.12.22#授权;2020.07.28#实质审查的生效;2020.07.03#公开

摘要：基板处理装置具有：处理容器，其收纳基板；载置台，其在该处理容器内载置基板；排气部，其对该处理容器内的处理气体进行排气；以及分隔壁，其配置于该处理容器内，包围载置台，在该分隔壁的内部，在整周上以在铅垂方向延伸的方式形成有与排气部连通的排气流路，沿着该分隔壁的内侧周向等间隔地形成有与基板处理空间和该排气流路连通的多个开口，该基板处理空间形成于该分隔壁的内侧且载置台的上方。

主权项：1.一种基板处理装置，其是对基板进行处理的基板处理装置，其中，该基板处理装置具有：处理容器，其收纳基板；载置台，其在所述处理容器内载置基板；排气部，其对所述处理容器内的处理气体进行排气；以及分隔壁，其配置于所述处理容器内，包围所述载置台，在所述分隔壁的内部，在整周上以在铅垂方向上延伸的方式形成有与所述排气部连通的排气流路，沿着所述分隔壁的内侧周向等间隔地形成有与基板处理空间和所述排气流路连通的多个开口，该基板处理空间形成于所述分隔壁的内侧且所述载置台的上方。

全文数据：

权利要求：

百度查询： 东京毅力科创株式会社 基板处理装置

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