申请/专利权人：DIC株式会社

申请日：2018-09-25

公开（公告）日：2020-07-03

公开（公告）号：CN111373842A

主分类号：H05B33/10(20060101)

分类号：H05B33/10(20060101);H05B33/14(20060101)

优先权：["20171004 JP 2017-194106"]

专利状态码：失效-发明专利申请公布后的撤回

法律状态：2023.06.02#发明专利申请公布后的撤回;2020.10.23#实质审查的生效;2020.07.03#公开

摘要：提供制造发光特性优异的发光层和发光元件的方法。本发明的发光层的形成方法具有：准备含有粒子、以及大气压下的沸点为200℃以上的分散介质的油墨的工序，该粒子由具有发光性的半导体纳米晶体和负载于该半导体纳米晶体的分散剂构成；将前述油墨供应至支撑体、在前述支撑体上形成涂膜的工序；将形成有前述涂膜的前述支撑体收纳在腔室内、使前述腔室内减压至1～500Pa的第1压力、同时在该第1压力保持2分钟以上而将前述分散介质从前述涂膜除去的工序；以及使前述腔室内减压至比前述第1压力低的第2压力、同时在该第2压力保持规定的时间而进一步将前述分散介质从前述涂膜除去的工序。

主权项：1.一种发光层的形成方法，其特征在于，具有：准备含有粒子、以及大气压下的沸点为200℃以上的分散介质的油墨的工序，所述粒子由具有发光性的半导体纳米晶体和负载于该半导体纳米晶体的分散剂构成；将所述油墨供应至支撑体、在所述支撑体上形成涂膜的工序；将形成有所述涂膜的所述支撑体收纳在腔室内、使所述腔室内减压至1～500Pa的第1压力、同时在该第1压力保持2分钟以上而将所述分散介质从所述涂膜除去的工序；以及使所述腔室内减压至比所述第1压力低的第2压力、同时在该第2压力保持规定的时间而进一步将所述分散介质从所述涂膜除去的工序。

全文数据：

权利要求：

百度查询： DIC株式会社 发光层的形成方法和发光元件的制造方法

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