申请/专利权人：文鼎科技开发股份有限公司

申请日：2016-10-26

公开（公告）日：2020-07-03

公开（公告）号：CN107220222B

主分类号：G06F40/109(20200101)

分类号：G06F40/109(20200101)

优先权：["20160322 TW 105108741"]

专利状态码：有效-授权

法律状态：2020.07.03#授权;2017.10.31#实质审查的生效;2017.09.29#公开

摘要：本发明公开了一种字型调整方法，用以调整该字型以将该字型输出于输出装置的第二像素矩阵。该字型是设计于第一像素矩阵。该字型调整方法包括根据该输出装置的至少一特征值决定一常数、上限密度及下限密度；根据该字型于该第一像素矩阵的密度、该常数、该上限密度及该下限密度执行内插运算以求得变化参数；根据该变化参数调整该字型；及由该输出装置将该调整后的字型输出于该第二像素矩阵。

主权项：1.一种字型调整方法，其特征在于，该种字型调整方法用以调整该字型以将该字型输出于输出装置的第二像素矩阵，该字型是设计于第一像素矩阵，该种字型调整方法包括：根据该输出装置的至少一特征值决定第一常数、上限尺寸、下限尺寸、上限密度及下限密度；根据该第二像素矩阵的尺寸、该第一常数、该上限尺寸、该下限尺寸执行第一内插运算以得到第二常数；根据该字型于该第一像素矩阵的密度、该第二常数、该上限密度及该下限密度执行第二内插运算以求得变化参数；根据该变化参数调整该字型；及由该输出装置将该调整后的字型输出于该第二像素矩阵。

全文数据：字型调整方法技术领域[0001]本发明涉及一种字型调整方法，尤指一种调整字型的密度以将该字型输出于输出装置的字型调整方法。背景技术[0002]当前的字型应用已包含多种样态，例如显示、打印、投影等。字型创建后，可被运用于不同的输出装置，并被转换为各种尺寸、颜色及或字体粗细。应用过程中，常可观察到许多效果不佳的问题。举例来说，当包括较多像素的大型字被转换为包含较少像素的小型字，或当小型字被转换为大型字时，常发生糊笔或笔划密度不均的问题，进而造成显示效果不良、或打印效果不佳，造成使用者困扰。[0003]当前技术中，可将输出的多个字型使用校准参数予以校准，例如将笔划宽度一同缩减，以降低糊笔现象。但经此处理可能导致笔划较少的字型被不必要地校准，导致笔划过细而显示不清。[0004]除此之外，先前技术中，当输出一篇字数繁多的文章，在未经校准处理前，有些字型结构较拥挤、有些字型结构较稀疏，导致通篇观看的视觉效果不均匀。若使用相同校准参数校准所有字型后，整体仍难以均匀。这种输出效果不佳的现象常见于携带装置等应用。因此，本领域实须解决方案以改善当前技术的缺失。发明内容[0005]本发明的一实施例提供一种字型调整方法，该种字型调整方法用以调整该字型以将该字型输出于输出装置的第二像素矩阵，该字型是设计于第一像素矩阵，该种字型调整方法包括根据该输出装置的至少一特征值决定第一常数、上限密度及下限密度;根据该字型于该第一像素矩阵的密度、该第一常数、该上限密度及该下限密度执行内插运算以求得变化参数;根据该变化参数调整该字型；及由该输出装置将该调整后的字型输出于该第二像素矩阵。[0006]本发明的一实施例提供一种字型调整方法，该种字型调整方法用以调整该字型以将该字型于输出装置输出于第二像素矩阵，该字型是设计于第一像素矩阵，该种字型调整方法包括根据该输出装置的至少一特征值决定第一常数、上限密度、下限密度、上限尺寸及下限尺寸;根据该第二像素矩阵的尺寸、该第一常数、该上限尺寸、该下限尺寸执行第一内插运算以得到第二常数;根据该字型于该第一像素矩阵的密度、该第二常数、该上限密度及该下限密度执行第二内插运算以求得变化参数;根据该变化参数调整该字型;及由该输出装置将该调整后的字型输出于该第二像素矩阵。附图说明[0007]图1是本发明实施例中计算机系统的示意图。[0008]图2是本发明实施例的字型调整方法的流程图。[0009]图3是设计于256x256的像素矩阵的字型的示意图。[0010]图4是图3的字型等比例缩放到26x26的像素矩阵且未经调整的示意图。[0011]图5是本发明一实施例中，根据变化参数调整图4的字型，并输出于像素矩阵的示意图。[0012]图6是本发明一实施例的第一密度、上限密度、下限密度的关系示意图。[0013]图7是本发明另一实施例中，根据变化参数调整图4之字型，并输出于像素矩阵之示意图。[00M]图8是本发明另一实施例之字型调整方法的流程图。[0015]图9是本发明一实施例之目标尺寸、上限尺寸、下限尺寸之关系示意图。[0016]图10是本发明一实施例中，考量密度与尺寸两向度以求得变化参数的坐标示意图。[0017]图11是本发明另一实施例中，考量密度与尺寸两向度以求得变化参数的坐标示意图。[0018]其中，附图标记说明如下：[0019]100计算机系统[0020]110处理装置[0021]120输出装置[0022]MUM2像素矩阵[0023]C字型[0024]D密度[0025]200字型调整方法[0026]210至240步骤[0027]DU上限密度[0028]DL下限密度[0029]SU上限尺寸[0030]SL下限尺寸[0031]Vr变化参数[0032]R常数[0033]Rl第一常数[0034]R2第二常数具体实施方式[0035]图1是本发明实施例中计算机系统100的示意图。计算机系统100可包含处理装置110及输出装置120。处理装置110可将设计于像素矩阵Ml的字型C处理后，使字型C输出于输出装置120的像素矩阵M2。其中处理装置110可为设有字型引擎fontengine的处理器或伺服器，输出装置120可为智慧手机、屏幕、平板电脑、显示面板、印表机、投影机或数字相机等可输出字型的装置。于本发明一实施例中，处理装置110与输出装置120可整合为一装置，或以有线及或无线路径连结。[0036]图2是本发明实施例的字型调整方法200的流程图。参照图1的计算机系统100,字型调整方法200可用以调整字型C以将字型C输出于输出装置120的像素矩阵M2。字型C是设计于像素矩阵Ml，字型调整方法200可包含：[0037]步骤210:根据输出装置120的至少一特征值决定常数R、上限密度DU及下限密度DL;[0038]步骤220:根据字型C于像素矩阵Ml的密度D、常数R、上限密度DU及下限密度DL执行一内插运算以求得变化参数Vr;[0039]步骤230:根据变化参数Vr调整字型C;及[0040]步骤240:由输出装置120将调整后的字型C输出于像素矩阵M2。[0041]举例而言，字型C是中文字型「纛」，且字型C是设计于像素矩阵M1，其中像素矩阵Ml例如为256x256的像素矩阵，故像素矩阵Ml可包含65536个像素。现欲将字型C显示于像素矩阵M2，且像素矩阵M2例如为26x26的像素矩阵，故像素矩阵M2可包含676个像素。原先设计且布局于像素矩阵Ml的字型C，因像素矩阵Ml的像素数65536较多，故笔划的边缘曲线可较为细致，且笔划之间的间隙可较分明，故视觉效果清晰。然而，将字型C等比例从像素矩阵Ml缩放至像素矩阵M2后，因像素矩阵M2的像素数676较少，故笔划的边缘曲线会较为粗糙，例如呈现锯齿状，且笔划之间的间隙将难以分离而导致糊笔，故视觉效果不佳。图3是设计于256x256的像素矩阵的字型C以传统中文字型「纛」为例）的示意图。图4是图3的字型C等比例缩放到26x26的像素矩阵的示意图。由图4可见糊笔较严重。因此，可采用图2的方法200改善输出效果。[0042]步骤210中，所述的至少一特征值可包含分辨率、色阶设定及或字体粗细程度，分辨率可例如以每英吋点数（dotsperinch，dpi表示，色阶设定可例如包含单色monochrome设定或灰阶greylevel设定，字体粗细程度可例如为显示粗体字、中体字、细体字的设定。常数R、上限密度DU及下限密度DL可如表1:[0044]表1[0045]表1内的数字仅为举例，非用以限定本发明范围。此表格的建置可根据资料库统计资料产生，其可根据数个特征值产生数个对应的表格后，再以内插法自动化产生全套表格。关于表格的后续优化，亦可允许人工微调，但其非必须。步骤220中，字型C于像素矩阵Ml的密度D可例如为字型C于像素矩阵Ml内的有色像素数与像素矩阵Ml的像素数的比值。以单色设定举例而言，若像素矩阵Ml的像素数为65536,且字型C于像素矩阵Ml形成31116个有色像素，则字型C的密度D可为3111665536,即47.4%。图6是本发明一实施例的密度D、上限密度DU、下限密度DL的关系示意图。以像素矩阵Ml大于像素矩阵M2亦即像素矩阵Ml的像素数较像素矩阵M2多）的实施例为例，考量步骤210至220所述的密度D、上限密度DU、下限密度DL、常数R及变化参数Vr，可例如有下列三种情况：[0046]情况d-1:若密度D小于下限密度DL，表示字型C本身的结构相当稀疏，故输出于像素矩阵M2时视觉效果应可清晰，故可直接等比例缩放后输出，此时变化参数Vr可为1;[0047]情况d-2:若密度D大于上限密度DU，表示字型C本身的结构相当繁复，故输出于像素矩阵M2时视觉效果应不佳，字型C由像素矩阵Ml等比例缩放至像素矩阵M2后，可再以变化参数Vr的最小值处理，亦即常数R;[0048]情况d-3:若密度D介于上限密度DU与下限密度DL之间，可根据密度D、常数R、上限密度DU及下限密度DL执行一内插运算以求得变化参数Vr。[0049]图6可示意上述的三种情况。兹以函数Vr=gD，R，DU，DL表示该内插运算。举例而言，该内插运算可为但不限于数学式cl所示：[0050]Vr=gD,R,DU,DL[0051]=I-D-DLDU-DLXI-R···.cl[0052]步骤230提及根据变化参数Vr调整字型C。举例来说，若经计算，变化参数Vr为0.9，则可将字型C等比例缩放且输出于像素矩阵M2的图样（例如图4，再根据变化参数Vr如0.9调整字型C例如调整为图5，以使视觉效果清晰。该调整可例如为将笔划粗细缩小为原先的0.9倍等。举例来说，步骤230的操作可为根据变化参数Vr将字型C的至少一笔划改变粗细、将字型C的轮廓外框改变粗细及或改变字型C的伽玛gamma值等。将笔划或外框调整变细，可使字型C内的间隙较为分明，将伽玛值调降可使视觉效果比较淡白。步骤240的输出结果可如图5所示。图5是将图4的字型C根据变化参数Vr调整字型C，并输出于像素矩阵M2的示意图。相较于图4,可见图5的多个笔划之间较为分明，故视觉效果已改善且较清晰。[0053]图7是本发明另一实施例中，根据变化参数调整图4的字型，并输出于像素矩阵的示意图。由于中文字于统计上直笔划较少、且横笔划较多，故调整字型C时可将横笔划变细，但不改变直笔划的粗细、或使横笔划的变细程度较大，但直笔划的变细程度较小，从而在调整字型C的同时，兼顾文字的结构美感。图7是保持图4的直笔划，且调整图4的横笔划所产生的调整后字型C。图7的视觉效果相异于上述的图5,但可读性与清晰度仍优于图4所示的调整前的字型C。[0054]图8是本发明另一实施例的字型调整方法600的流程图。参照图1的计算机系统100,字型调整方法600亦可用以调整字型C以将字型C于输出装置120输出于像素矩阵M2。字型C是设计于像素矩阵Ml。字型调整方法600方法可包含：[0055]步骤602:根据输出装置120的至少一特征值决定第一常数RU上限密度DU、下限密度DL、上限尺寸SU及下限尺寸SD;[0056]步骤604:根据像素矩阵M2的尺寸（亦即目标尺寸Sf、第一常数RU上限尺寸SU、下限尺寸SD执行第一内插运算以得到第二常数R2;[0057]步骤620:根据字型C于像素矩阵Ml的密度D、第二常数R2、上限密度DU及下限密度SL执行第二内插运算以求得变化参数Vr;[0058]步骤630:根据变化参数Vr调整字型C;及[0059]步骤640:由输出装置120将调整后的字型C输出于像素矩阵M2。[0060]相较于图2之实施例，字型调整方法600的实施例更考量第二像素矩阵M2的尺寸，亦即目标尺寸Sf。本文所述的尺寸，是对应于像素数，而非对应于显示屏的大小。例如256像素x256像素的矩阵的尺寸，可视为大于64像素x64像素的矩阵的尺寸。举例而言，若64像素x64像素的矩阵的字型经投影成为四平方公尺的大小，其尺寸仍视为小于256像素x256像素的矩阵的字型打印于A4纸上。步骤602所述的第一常数RU上限密度DU、下限密度DL、上限尺寸SU及下限尺寸SD可根据输出装置120的至少一特征值如上述的分辨率、色阶设定及或字体粗细程度等），制表如表2所示：L0062J表2[0063]表2仅用以举例示意，表内数字并非用以限定本发明的范围。其中，上限尺寸SU以128像素为例，S卩SU=128，其是对应于128像素X128像素的像素矩阵；下限尺寸SL以40像素为例，S卩SL=40，其是对应于40像素X40像素的像素矩阵。以像素矩阵Ml大于像素矩阵M2为例，图9是本发明一实施例的目标尺寸Sf、上限尺寸SU、下限尺寸SL的关系示意图，可例如有下列三种情况：[0064]情况s-1若目标尺寸Sf大于上限尺寸SU，则表示像素矩阵M2的像素数足够多，故显示效果应可清晰，可直接依比例缩放，此时变化参数[0065]情况s-2若目标尺寸Sf小于下限尺寸SL，表示像素矩阵M2的像素数相当多，显示效果可随密度D改变（密度D越小则表示字型C构造越简单，故显示效果越清晰，反之越模糊），故变化参数Vr可考量密度D，述于后文；[0066]情况s-3若目标尺寸Sf介于上限尺寸SU与下限尺寸SL之间，则可如步骤604所示，求得执行第一内插运算以得到第二常数R2。第一内插运算可以函数f表示，如R2=fRl，Sf，SU，SD，其可如但不限于数学式c2所示:R2[0067]=fSf,SU,SL,R1[0068]=I-Sf-SLSU-SLXI-Rl···.c2[0069]举例而言，若像素矩阵M2是64像素x64像素的像素矩阵，则Sf可为64,若以表2举例的数据代入数学式c2，则第二常数R2可如下计算：[0070]R2[0075]如前述，第一常数Rl可为变化参数Vr的最小值，也就是对应于调整字型C的调整程度最大的变化参数Vr。于图8的实施例中，可更根据目标尺寸Sf校准第一常数Rl以求得第二常数R2。步骤620至640的原理与步骤220至240的原理相似，故不重述，唯步骤620中，计算变化参数Vr时可使用步骤604求得的第二常数R2。换句话说，步骤620的第二内插运算可例如但不限于为数学式c3所示：[0076]Vr=gD,R2,DU,DL[0077]=1-D-DLDU-DLX1-R2···.c3；[0078]其中数学式c3的函数g可同于上文的数学式cl，但数学式cl内的常数R，于数学式c3中是以第二常数R2代入。[0079]图10是本案一实施例中，考量密度与尺寸两向度以求得变化参数Vr的坐标示意图。图10仅为举例，研发者仍可依需求调整计算方式或规则。图10中，纵轴可以上限尺寸SU及下限尺寸SL为界分为三区，横轴可以上限密度DU及下限密度DL为界分为三区。图10的坐标图暂不述及边界状况boundarycondition，研发者可根据需求，例如调整计算规则以选用边界的其中一边的计算方式，作为边界状况下的计算方式。图10是以前述的像素矩阵Ml大于像素矩阵M2的情况为例，图10的坐标图包含区域rll至r33。其中，区域rll、rl2、rl3因目标尺寸Sf足够大，亦即像素矩阵M2的像素数够多，故输出效果应可良好，故等比例缩放后可不用调整字型C，例如应可不用将笔划变细，故变化参数Vr可例如为100%。区域rll、rl2、rl3中，密度D较小，已小于下限密度DL，故变化参数Vr可例如为1参酌上述情况d-1的说明），也就是等比例缩放后不用再调整即可输出。区域r22可如上述数学式c2、（c3所述，求得第二常数R2后再据以求得Vr。区域r32中，因目标尺寸Sf已小于下限尺寸SD，故可不考量目标尺寸Sf，直接以第一常数Rl、密度D、上限密度DU、下限密度DL求得变化参数Vr。区域r23中，先根据函数f考量目标尺寸Sf求得第二常数R2,由于字型C的密度D已大于上限密度DU，故可用上限密度DU代入密度D，以函数g求得变化参数Vr为第二常数R2。区域r33中，由于字型C的密度D已大于上限密度DU，且目标尺寸Sf已小于下限尺寸SL，故可以变化参数Vr的最小值，亦即第一常数R1，作为变化参数Vr，也就是说，此时字型C被调整的程度最大。[0080]图11是本案另一实施例中，考量密度与尺寸两向度以求得变化参数Vr的坐标示意图。图11是以像素矩阵Ml小于像素矩阵M2的情况为例。因图11的应用是相反于图10的应用，故图11的坐标图可与图10的坐标图对称分布，例如区域xll可对应于图10的区域rll、区域X12可对应于图10的区域r12，以此类推，区域x33可对应于图10的区域r33。当像素矩阵Ml小于像素矩阵M2,经等比例缩放后，再以变化参数Vr调整字型C以于输出装置120用输出调整后的字型C，可使字型C的比例更加匀称，故可改善输出效果。[0081]于本发明一实施例中，上述的字型C可为完整字completecharacter;于本发明另一实施例中，上述的字型C可为字根radical。举例而言，中文字「变」的上半部结构较复杂，下半部结构较单纯，故可以本案第2、7图的方法调整上半部的字根，但不调整下半部的字根。于一完整字中，字根的部份可由框格bondingbox予以框定。[0082]综上所述，本发明藉由考量字型C设计于像素矩阵Ml的密度D，或字型C的密度D及其目标尺寸Sf，求得变化参数Vr，以将等比例缩放于像素矩阵M2的字型C再以变化参数Vr调整，可有效地改善字型C于输出装置120输出于像素矩阵M2的输出品质。例如当使用者以手机阅读字型时，若未应用本发明，则可能通篇文字浓淡不均，且复杂字型糊笔严重，导致美观程度或辨识率下降，本发明可藉由调整字型以均匀化文字，以减少糊笔及文字浓淡不均的问题。又例如当输出装置120是印表机时，当打印复杂字及或粗体字常有打印品质不佳的风险，本发明亦可降低此风险。由于本发明可对于各个字型C执行输出的调整，而非针对所有字型作相同程度的调整，故输出品质可更精致。又因本发明实施例可视情况判断，使有些字型可不被调整、或降低调整程度，故可兼顾节省运算资源。因此，本发明对于硬体输出装置输出的字型的品质、及使用者体验，皆实有助益。[0083]以上所述仅为本发明的优选实施例而已，并不用于限制本发明，对于本领域的技术人员来说，本发明可以有各种更改和变化。凡在本发明的精神和原则之内，所作的任何修改、等同替换、改进等，均应包含在本发明的保护范围之内。

权利要求：1.一种字型调整方法，其特征在于，该种字型调整方法用以调整该字型以将该字型输出于输出装置的第二像素矩阵，该字型是设计于第一像素矩阵，该种字型调整方法包括：根据该输出装置的至少一特征值决定第一常数、上限密度及下限密度；根据该字型于该第一像素矩阵的密度、该第一常数、该上限密度及该下限密度执行内插运算以求得变化参数；根据该变化参数调整该字型;及由该输出装置将该调整后的字型输出于该第二像素矩阵。2.如权利要求1所述的字型调整方法，其特征在于，还包括：根据该输出装置的该至少一特征值决定上限尺寸及下限尺寸；其中根据该字型于该第一像素矩阵的密度、该第一常数、该上限密度及该下限密度执行内插运算以求得该变化参数包括：根据该第二像素矩阵的尺寸、该第一常数、该上限尺寸、该下限尺寸执行第一内插运算以得到第二常数;及根据该字型于该第一像素矩阵的密度、该第二常数、该上限密度及该下限密度执行第二内插运算以求得该变化参数。3.如权利要求1或2所述的字型调整方法，其特征在于，其中该输出装置是智慧手机、屏幕、平板电脑、显示面板、打印机、投影机或数字相机。4.如权利要求1或2所述的字型调整方法，其特征在于，其中该至少一特征值包括分辨率、色阶设定及或字体粗细程度。5.如权利要求1或2所述的字型调整方法，其特征在于，其中该第一像素矩阵大于该第二像素矩阵。6.如权利要求1或2所述的字型调整方法，其特征在于，其中该第一像素矩阵小于该第二像素矩阵。7.如权利要求1或2所述的字型调整方法，其特征在于，其中该字型是完整字或字根。8.如权利要求1或2所述的字型调整方法，其特征在于，其中根据该变化参数调整该字型包括：根据该变化参数将该字型的至少一笔划改变粗细，从而根据该变化参数调整该字型。9.如权利要求1或2所述的字型调整方法，其特征在于，其中根据该变化参数调整该字型包括：根据该变化参数将该字型的轮廓外框改变粗细，从而根据该变化参数调整该字型。10.如权利要求1或2所述的字型调整方法，其特征在于，其中根据该变化参数调整该字型包括：根据该变化参数改变该字型的伽玛值，从而根据该变化参数调整该字型。

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