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【发明授权】一种荧光高分子形状记忆材料及其制备方法_江南大学_201910794411.5 

申请/专利权人:江南大学

申请日:2019-08-27

公开(公告)日:2020-07-03

公开(公告)号:CN110452327B

主分类号:C08F220/14(20060101)

分类号:C08F220/14(20060101);C08F220/18(20060101);C08F220/06(20060101);C08F220/58(20060101);C08F228/02(20060101);C08F226/10(20060101);C09K11/06(20060101)

优先权:

专利状态码:有效-授权

法律状态:2020.07.03#授权;2019.12.10#实质审查的生效;2019.11.15#公开

摘要:本发明公开了一种荧光高分子形状记忆材料及其制备方法,属于高分子材料领域。本发明通过自由基共聚合的方法将带有双键的荧光单体与形状记忆高分子共聚得到荧光高分子形状记忆材料。本发明制备的荧光高分子形状记忆材料具有较好记忆性能和发光性能,在普通的光照中不会有任何显现,在紫外光下会呈现不同的颜色和图案,可广泛的应用于防伪标识,安全标识、包装材料、光学领域和生物成像。

主权项:1.一种制备荧光高分子形状记忆材料的方法,其特征在于,所述方法包括如下步骤:1将含疏水性基团的烯类单体、含亲水性基团的烯类单体、含反应性基团的烯类单体、有机溶剂、自由基引发剂和荧光单体进行聚合反应,得到聚合物体系;其中,荧光单体的添加量为含疏水性基团的烯类单体、含亲水性基团的烯类单体和含反应性基团的烯类单体总重量的0.005%-1%;所述荧光单体的结构如式I所示: 2在步骤1所得聚合物体系中加入交联剂,混合分散均匀后干燥成膜。

全文数据:

权利要求:

百度查询: 江南大学 一种荧光高分子形状记忆材料及其制备方法

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