申请/专利权人：长鑫存储技术有限公司

申请日：2019-09-30

公开（公告）日：2020-07-03

公开（公告）号：CN210916247U

主分类号：C23C16/455(20060101)

分类号：C23C16/455(20060101)

优先权：

专利状态码：有效-授权

法律状态：2020.07.03#授权

摘要：本实用新型公开一种薄膜制备设备，其包括：反应腔室；竖直设置在所述反应腔室内的第一注入管，设置有多个沿所述第一注入管依次排列的第一注入孔；设置在所述反应腔室内的第二注入管，包括沿竖直方向延伸的第一管段，设置有多个沿所述第一管段依次排列的多个第二注入孔；第二管段，其一端连通于所述第一管段的顶端、其另一端用于通入第一反应气体；其中，所述第一注入管的底端用于通入第一反应气体。采用这种薄膜制备设备在多个晶圆上生成薄膜，位于反应腔室上部的晶圆和位于反应腔室底部的晶圆其表面上生长出的薄膜的厚度趋于一致。

主权项：1.一种薄膜制备设备，其特征在于，包括：反应腔室；竖直设置在所述反应腔室内的第一注入管，设置有多个沿所述第一注入管均匀排布的第一注入孔；设置在所述反应腔室内的第二注入管，包括沿竖直方向延伸的第一管段，设置有多个沿所述第一管段均匀排布的多个第二注入孔；第二管段，其一端连通于所述第一管段的顶端、其另一端用于通入第一反应气体；其中，所述第一注入管的底端用于通入第一反应气体。

全文数据：

权利要求：

百度查询： 长鑫存储技术有限公司 薄膜制备设备

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