申请/专利权人:广州晶慧实业有限公司
申请日:2019-07-02
公开(公告)日:2020-07-03
公开(公告)号:CN210911718U
主分类号:B41J11/00(20060101)
分类号:B41J11/00(20060101)
优先权:
专利状态码:有效-授权
法律状态:2020.07.03#授权
摘要:本实用新型公开了一种打印平台,包括负压腔体和平台,所述平台设置于所述负压腔体的上方,且平台设有多个通孔,所述通孔与负压腔体联通,所述平台表面设有多个凹槽,所述通孔设置于凹槽中。减小打印介质受吸风口的影响,避免打印介质产生明显的吸附痕迹,提升吸附系统下打印机的打印效果;通过凹槽的设计为经过吸风通孔的打印介质提供更大的受力面积,减小打印介质在吸附过程中凹陷的深度,避免打印介质局部发生损坏;所述凹槽与凹槽之间能够产生相互的拉扯作用,使打印介质紧贴平台表面,并进一步减小打印介质在凹槽上的下陷深度,使打印介质趋向于完全平整;提高打印过程中打印介质的平整度,进而提高了打印精度,提升了打印机的打印效果。
主权项:1.一种打印平台,包括负压腔体和平台,所述平台设置于所述负压腔体的上方,且平台设有多个通孔,所述通孔与负压腔体联通,其特征在于,所述平台表面设有多个缝隙状的凹槽,所述通孔设置于凹槽中;所述凹槽在平台表面呈纵向和或横向排布。
全文数据:
权利要求:
百度查询: 广州晶慧实业有限公司 一种打印平台
免责声明
1、本报告根据公开、合法渠道获得相关数据和信息,力求客观、公正,但并不保证数据的最终完整性和准确性。
2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解,仅供参考使用,不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。