申请/专利权人：佳能株式会社

申请日：2020-01-03

公开（公告）日：2020-07-14

公开（公告）号：CN111413850A

主分类号：G03F7/20(20060101)

分类号：G03F7/20(20060101);G03F9/00(20060101)

优先权：["20190108 JP 2019-001379"]

专利状态码：在审-实质审查的生效

法律状态：2021.01.22#实质审查的生效;2020.07.14#公开

摘要：本发明公开了曝光装置、用于控制曝光装置的方法、以及物品制造方法。曝光装置包括被配置为将掩模的图案投影到基板上的投影光学系统、被配置为保持和移动所述基板的基板台架、以及被配置为控制由所述基板台架保持的基板的曝光的控制器，其中所述控制器基于远心度信息和高度信息来获得投影到所述基板上的图案的图像相对于所述掩模的图案的偏离量，并且基于获得的偏离量来校正所述图像的偏离以使所述基板曝光，所述远心度信息是关于所述投影光学系统的各个图像高度的远心度的信息，所述高度信息是关于所述基板的表面的高度的信息。

主权项：1.一种曝光装置，所述曝光装置可操作以使基板曝光，所述装置包括：投影光学系统，所述投影光学系统被配置为将掩模的图案投影到所述基板上；基板台架，所述基板台架被配置为保持和移动所述基板；以及控制器，所述控制器被配置为控制由所述基板台架保持的基板的曝光，其中所述控制器基于远心度信息和高度信息来获得投影到所述基板上的图案的图像相对于所述掩模的图案的偏离量，并且基于获得的偏离量来校正所述图像的偏离以使所述基板曝光，所述远心度信息是关于所述投影光学系统的各个图像高度的远心度的信息，所述高度信息是关于所述基板的表面的高度的信息。

全文数据：

权利要求：

百度查询： 佳能株式会社 曝光装置、用于控制曝光装置的方法、以及物品制造方法

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