申请/专利权人：芯恩(青岛)集成电路有限公司

申请日：2019-01-09

公开（公告）日：2020-07-17

公开（公告）号：CN111427236A

主分类号：G03F7/20(20060101)

分类号：G03F7/20(20060101)

优先权：

专利状态码：失效-发明专利申请公布后的驳回

法律状态：2023.10.31#发明专利申请公布后的驳回;2020.08.11#实质审查的生效;2020.07.17#公开

摘要：本发明提供一种多光束光掩膜板曝光系统，在所述曝光系统中设置至少一个双折射偏光棱镜，从而可以使得一道光束被分离成具有一定分离角γ的两道光束，提高了对光掩膜板曝光和写入的速度，提高了生产效率、降低了生产成本。其中，所述双折射偏光棱镜包括渥拉斯顿棱镜。本发明还提供了一种采用上述曝光系统对光掩膜板进行写入的方法，具备上述技术效果。

主权项：1.一种多光束光掩膜板曝光系统，其特征在于，所述曝光系统至少包含：光源，所述光源用于发射曝光光束；一个高频调制器，至少一个双折射偏光棱镜，至少一个变焦光学器件，以及至少两个多角镜；其中，在所述光源后依次设置所述高频调制器、所述双折射偏光棱镜、所述变焦光学器件和所述多角镜，且形成一光路；在所述光路中，所述双折射偏光棱镜设置在所述变焦光学器件与所述高频调制器之间，所述多角镜设置在所述变焦光学器件之后，从所述双折射偏光棱镜一面入射的一道光束经过所述双折射偏光棱镜之后成为具有一定分离角的两道光束，所述两个多角镜分别接收从所述双折射偏光棱镜出射的具有一定分离角的所述两道光束。

全文数据：

权利要求：

百度查询： 芯恩(青岛)集成电路有限公司 一种多光束光掩膜板曝光系统

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