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【发明公布】基板及其制备方法_武汉华星光电半导体显示技术有限公司_202010354200.2 

申请/专利权人:武汉华星光电半导体显示技术有限公司

申请日:2020-04-29

公开(公告)日:2020-07-17

公开(公告)号:CN111427189A

主分类号:G02F1/1335(20060101)

分类号:G02F1/1335(20060101)

优先权:

专利状态码:失效-发明专利申请公布后的驳回

法律状态:2023.03.24#发明专利申请公布后的驳回;2020.08.11#实质审查的生效;2020.07.17#公开

摘要:本申请公开了一种基板及其制备方法。该基板包括衬底基板,衬底基板上设置有至少一微盲孔。本申请实施例通过在衬底基板上设置至少一微盲孔,该微盲孔可以有效的对入射光进行散射作用,从而可以有效的增加衬底基板表面的散射功能,以调整基板的扩散角度和光场的分布,使出射光具有更好的视角特性和亮度均匀性。

主权项:1.一种基板,其特征在于,包括衬底基板,所述衬底基板上设置有至少一微盲孔。

全文数据:

权利要求:

百度查询: 武汉华星光电半导体显示技术有限公司 基板及其制备方法

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