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【发明公布】存储单元结构及存储器阵列结构、电压偏置方法_中国科学院微电子研究所_202010288743.9 

申请/专利权人:中国科学院微电子研究所

申请日:2020-04-14

公开(公告)日:2020-07-24

公开(公告)号:CN111446271A

主分类号:H01L27/24(20060101)

分类号:H01L27/24(20060101);G11C13/00(20060101)

优先权:

专利状态码:有效-授权

法律状态:2023.01.24#授权;2020.08.18#实质审查的生效;2020.07.24#公开

摘要:本发明公开了一种存储单元结构及存储器阵列结构、电压偏置方法,其中,存储单元结构包括:衬底层、阱层和晶体管,衬底层用于支撑存储单元结构;阱层嵌设于衬底层上,阱层的上表面与衬底层的上表面持平,晶体管设置于阱层上。本发明通过对存储单元结构进行了深阱偏置,使得存储单元的阱电压可以单独偏置为特定的电压,结合重新设计的存储单元阵列结构,将施加的编程电压大部分落在存储单元结构上,实现了对存储单元的编程电压的降低,同时可以避免选通晶体管因承受过大电压而被击穿,从而确保器件更好的可靠性以及存储单元阵列结构的面积效率更高。

主权项:1.一种存储单元结构,其特征在于,包括:衬底层,用于为所述存储单元结构提供支撑;阱层,嵌设于所述衬底层,所述阱层的上表面与所述衬底层的上表面持平;以及晶体管,设置于所述阱层内部及表面。

全文数据:

权利要求:

百度查询: 中国科学院微电子研究所 存储单元结构及存储器阵列结构、电压偏置方法

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