申请/专利权人:长江存储科技有限责任公司
申请日:2019-10-24
公开(公告)日:2020-07-24
公开(公告)号:CN211088213U
主分类号:H01L21/67(20060101)
分类号:H01L21/67(20060101);H01L21/02(20060101)
优先权:
专利状态码:有效-授权
法律状态:2020.07.24#授权
摘要:该实用新型涉及晶圆清洁装置,能够减小清洁晶圆用的清洗液的用量,降低晶圆的清洗成本。为解决上述技术问题,以下提供了一种晶圆清洁装置,设置有至少两个清洁位,能够同时清洁至少两片晶圆,还包括:至少两个喷淋单元,分别设置到各个所述清洁位,以分别向各个清洁位放置的晶圆喷淋液体,且各喷淋单元均包括一第一液路通断控制模块,以控制所述喷淋单元内液路的通断。
主权项:1.一种晶圆清洁装置,设置有至少两个清洁位,能够同时清洁至少两片晶圆,其特征在于,还包括:至少两个喷淋单元,分别设置到各个所述清洁位,以分别向各个清洁位放置的晶圆喷淋液体,且各喷淋单元均包括一第一液路通断控制模块,以控制所述喷淋单元内液路的通断。
全文数据:
权利要求:
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