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【实用新型】γ源曝光中心装置_蔡元立_201922052272.7 

申请/专利权人:蔡元立

申请日:2019-11-25

公开(公告)日:2020-07-24

公开(公告)号:CN211086148U

主分类号:G01N23/04(20180101)

分类号:G01N23/04(20180101)

优先权:

专利状态码:有效-授权

法律状态:2020.07.24#授权

摘要:本实用新型提供了γ源曝光中心装置,包括空心管状主机、输源管、支撑臂,主机周侧至少设3个支撑臂,支撑臂包括滑轮、支脚,支脚上安装滑轮,支脚包括相套合的粗管体及细管体,细管体端部转动连接滑轮,细管体上延轴向分布有多个定位珠,对应的粗管体腔内壁上开孔,本γ源曝光中心装置的支撑臂采用定位珠进行定位,自由拉伸进行长度的调节,便于适应不同管径的检测。

主权项:1.γ源曝光中心装置,包括空心管状主机、输源管、支撑臂,主机周侧至少设3个支撑臂,支撑臂包括滑轮、支脚,支脚上安装滑轮,其特征在于,支脚包括相套合的粗管体及细管体,细管体端部转动连接滑轮,细管体上延轴向分布有多个定位珠,对应的粗管体腔内壁上开孔。

全文数据:

权利要求:

百度查询: 蔡元立 γ源曝光中心装置

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