申请/专利权人：TCL华星光电技术有限公司

申请日：2020-05-09

公开（公告）日：2020-07-28

公开（公告）号：CN111455322A

主分类号：C23C14/24(20060101)

分类号：C23C14/24(20060101);C23C14/14(20060101);C23C14/04(20060101)

优先权：

专利状态码：有效-授权

法律状态：2022.04.26#授权;2020.08.21#实质审查的生效;2020.07.28#公开

摘要：本发明提供一种坩埚装置、蒸镀装置，所述坩埚装置用以蒸镀金属铝材料，其包括：外层坩埚，具有一外层腔体，其腔体表面覆有热量反射涂层；内层坩埚，具有主体部，所述主体部嵌套于所述外层坩埚的外层腔体内。本发明一方面，通过在外层坩埚内壁设置热量反射涂层，可以使得坩埚装置内的蒸镀材料维持稳定的蒸发速率，并有效的提高蒸镀速率；另一方面，在内层坩埚的上方设置凹槽，且每个凹槽具有溢流孔，可以用于疏导溢出液体至外层坩锅，从而降低液体从坩埚装置的上表面冒出来损坏坩埚装置的风险。

主权项：1.一种坩埚装置，其特征在于，用以蒸镀金属铝材料，所述坩埚装置包括：外层坩埚，具有一外层腔体，其腔体表面覆有热量反射涂层；内层坩埚，具有主体部，所述主体部嵌套于所述外层坩埚的外层腔体内。

全文数据：

权利要求：

百度查询： TCL华星光电技术有限公司 坩埚装置、蒸镀装置

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