申请/专利权人：中国科学院大连化学物理研究所

申请日：2019-12-12

公开（公告）日：2020-07-28

公开（公告）号：CN211125575U

主分类号：H01J49/14(20060101)

分类号：H01J49/14(20060101);H01J49/42(20060101)

优先权：

专利状态码：有效-授权

法律状态：2020.07.28#授权

摘要：本实用新型公开了一种通过脉冲补气电子轰击电离源串联离子阱质谱装置。电子轰击电离源具有很高的电离效率，常用于串联四级杆、离子阱、飞行时间等各种质量分析器。离子阱是一种适用于低真空度的质量分析器，适当的高气压下对于离子阱的离子冷却，分辨率和灵敏度提高有很大的作用。所以为了解决两者串联使用时的矛盾，本实用新型发展了一种用于通过脉冲补气提高电子轰击电离源串联离子阱质谱灵敏度的方法。装置主要包括矩形离子阱，EI电离源，静电透镜系统，脉冲补气装置，真空泵系统。本实用新型本质上是实现了高真空下的EI源和低真空下矩形离子阱的联合使用，提高了离子阱的离子捕获效率，进而提高仪器的灵敏度一个数量级。

主权项：1.一种通过脉冲补气电子轰击电离源串联离子阱质谱装置，其特征在于：装置包括一中空密闭的腔室、脉冲补气装置1，于腔室内设有矩形离子阱2和电子轰击电离源，样品气体被电子轰击电离源产生的电子轰击电离，最后在电场的作用下，进入左端串联的离子阱质量分析器；脉冲补气装置1包括带有脉冲电磁阀的进气管，进气管的出气口一端穿过腔室壁面伸入至矩形离子阱2内，进气管的出气口位于矩形离子阱2远离子进入端一侧，进气管的另一端与气源相连；于腔室内的侧壁面上设有与真空泵10相连的排气口。

全文数据：

权利要求：

百度查询： 中国科学院大连化学物理研究所 一种通过脉冲补气电子轰击电离源串联离子阱质谱装置

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