申请/专利权人：元光科技股份有限公司

申请日：2019-12-13

公开（公告）日：2020-07-31

公开（公告）号：CN211151050U

主分类号：H01S5/065(20060101)

分类号：H01S5/065(20060101);H01S5/187(20060101);H01S5/183(20060101)

优先权：

专利状态码：有效-授权

法律状态：2020.07.31#授权

摘要：一种可调控光学模态的激光结构，包括基板；堆栈于该基板上的第一分布式布拉格反射镜；堆栈于该第一分布式布拉格反射镜上的发光层；以及依序堆栈于该发光层上的第二及第三分布式布拉格反射镜，该第三分布式布拉格反射镜由单层或多层介电质组成，并且在该第三分布式布拉格反射镜中央或周围区域呈现开口结构。如此，可透过控制开口的直径或面积以及介电质晶层数目以调控激光结构所产生的光学模态，进而改变发散角度，令其发散角度变小，可使得远场发光呈现均匀的强度分布和增大在光纤中传输距离。藉此，达到结构设计合理，装配简单，易于生量制造的功效，真正实现可量产性且具成本效益的激光结构。

主权项：1.一种可调控光学模态的激光结构，其特征在于，其包括：基板、第一分布式布拉格反射镜、发光层、第二分布式布拉格反射镜及第三分布式布拉格反射镜；该第一分布式布拉格反射镜堆栈于该基板上；该发光层堆栈于该第一分布式布拉格反射镜上；该第二分布式布拉格反射镜堆栈于该发光层上；该第三分布式布拉格反射镜堆栈于该第二分布式布拉格反射镜上，该第三分布式布拉格反射镜由单层或多层介电质组成，并且在该第三分布式布拉格反射镜中央或周围区域呈现开口结构。

全文数据：

权利要求：

百度查询： 元光科技股份有限公司 可调控光学模态的激光结构

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