申请/专利权人：中国人民解放军国防科技大学

申请日：2020-05-26

公开（公告）日：2020-07-31

公开（公告）号：CN111473873A

主分类号：G01J9/02(20060101)

分类号：G01J9/02(20060101)

优先权：

专利状态码：在审-实质审查的生效

法律状态：2020.08.25#实质审查的生效;2020.07.31#公开

摘要：本发明提出了相干阵列光束相位误差检测装置及相干合成锁相系统。相干阵列光束相位误差检测装置包括基板、立方分束器、立方合束器和偏振光电探测器。立方合束器呈N×M阵列排布在安装基板上，立方分束器排布在立方合束器阵列的一侧，与立方合束器阵列形成N×M+1阵列。参考光通过立方分束器后与相干阵列光束在立方合束器处进行偏振相干合成，实现阵列光束与参考光的相位误差检测。将该装置应用到相干合成系统中，对阵列光束分束后的小部分光进行处理后，获得相位误差传输给信号处理器，生成误差补偿信号，反馈给各光束的相位调制器，进行活塞像差校正，实现相干合成。利用本发明可有效提升相干合成系统的光束数量，解决控制带宽受限的难题。

主权项：1.相干阵列光束相位误差检测装置，其特征在于，包括基板、立方分束器、立方合束器和偏振光电探测器；立方分束器和立方合束器均安装在基板的正面，其中立方合束器有N×M个，N×M个立方合束器呈N列×M行阵列形式排布在安装基板上，形成N×M立方合束器阵列；N个立方分束器排布在N×M立方合束器阵列的一侧且与N×M立方合束器阵列形成N列×M+1行阵列；参考光从N个立方分束器的一侧入射，参考光经N个立方分束器后均分为N路功率相等的二级参考光，每一路二级参考光的光路上依次经过M个立方合束器；N×M阵列光束从基板的背面对应入射到N×M立方合束器阵列的各立方合束器中并与入射到各立方合束器中的二级参考光进行偏振相干合成，之后每一路合成光束分别输出到一个独立的偏振光电探测器，其中N×M阵列光束中各光束作为对应入射到各立方合束器的主光束，偏振光电探测器位于立方合束器的光束输出方向上，用于检测合成光束中主光束与参考光间的相位误差。

全文数据：

权利要求：

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