申请/专利权人:合肥鑫晟光电科技有限公司;京东方科技集团股份有限公司
申请日:2020-07-31
公开(公告)日:2020-09-15
公开(公告)号:CN111668102A
主分类号:H01L21/336(20060101)
分类号:H01L21/336(20060101);H01L29/786(20060101);H01L27/32(20060101)
优先权:
专利状态码:有效-授权
法律状态:2023.04.07#授权;2020.10.13#实质审查的生效;2020.09.15#公开
摘要:本发明公开了一种薄膜晶体管的制备方法,该薄膜晶体管的制备方法包括:在基板上形成遮光层;将具有遮光层的基板置于腔室内,并向腔室内通入前处理气体,并对基板进行前处理;向腔室内通入第一缓冲层气体,以去除残留的前处理气体;向腔室内通入第一缓冲层气体和第二缓冲层气体,以在遮光层远离基板的一侧形成缓冲层;在缓冲层远离基板的一侧形成有源层,有源层是由金属氧化物半导体材料形成的。通过避免前处理气体与第二缓冲层气体的接触,减少了杂质颗粒的形成,提高了薄膜晶体管的良品率。
主权项:1.一种薄膜晶体管的制备方法,其特征在于,包括:在基板上形成遮光层;将具有所述遮光层的所述基板置于腔室内,并向所述腔室内通入前处理气体,并对所述基板进行前处理;向所述腔室内通入第一缓冲层气体,以去除残留的所述前处理气体;向所述腔室内通入所述第一缓冲层气体和所述第二缓冲层气体,以在所述遮光层远离所述基板的一侧形成缓冲层;在所述缓冲层远离所述基板的一侧形成有源层,所述有源层是由金属氧化物半导体材料形成的。
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权利要求:
百度查询: 合肥鑫晟光电科技有限公司;京东方科技集团股份有限公司 薄膜晶体管的制备方法、显示面板及显示装置
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