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【发明公布】一种低真空痕量气体的快速无损采样分析装置和方法_中国科学院微电子研究所_202010404155.7 

申请/专利权人:中国科学院微电子研究所

申请日:2020-05-13

公开(公告)日:2020-09-15

公开(公告)号:CN111665103A

主分类号:G01N1/24(20060101)

分类号:G01N1/24(20060101);G01N27/62(20060101)

优先权:

专利状态码:有效-授权

法律状态:2023.08.18#授权;2020.10.13#实质审查的生效;2020.09.15#公开

摘要:本发明提出了一种低真空痕量气体的快速无损采样分析装置和方法,该装置包括真空获得模块、采样模块、气体分析模块和控制模块。其中真空获得模块包括二级真空腔室、真空泵组和隔断阀。采样模块包括工艺腔室、连接法兰、采样细管、截止阀、微孔法兰、二级真空腔室和电离单元的微孔。气体分析模块包括总压监测器、电离单元、质量分析器和探测器等。本发明装置解决了低真空气体采样分析过程中出现的质量歧视效应,真正做到了无损采样,测试结果准确;半封闭式电离单元可保持更高压力,提高了采样量;降低了采样时二级真空腔室的本底,降低了采样带来的本底干扰和微量气体的损失,进一步提高了装置的检测下限,更能分析具有极低浓度的气体。

主权项:1.一种低真空痕量气体的快速无损采样分析装置,其特征在于,该装置包括:真空获得模块、采样模块、气体分析模块和控制模块;其中,所述气体分析模块分别与所述真空获得模块、采样模块、和控制模块连接。

全文数据:

权利要求:

百度查询: 中国科学院微电子研究所 一种低真空痕量气体的快速无损采样分析装置和方法

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