申请/专利权人：深圳市诚峰智造有限公司

申请日：2020-04-07

公开（公告）日：2020-09-15

公开（公告）号：CN211507568U

主分类号：H01J37/32(20060101)

分类号：H01J37/32(20060101)

优先权：

专利状态码：有效-授权

法律状态：2020.09.15#授权

摘要：本实用新型公开了一种真空等离子处理系统，包括传送机构、等离子处理腔体、驱动机构、用于上料的第一机械手和用于下料的第二机械手，所述等离子处理腔体包括第一腔体和第二腔体，所述第一腔体设置于所述传送机构上，且所述传送机构带动所述第一腔体运动，所述第二腔体设置于所述传送机构的上方，所述驱动机构驱动所述第二腔体向第一腔体运动以实现等离子处理腔体的合体或分离。无需人工操作，整个过程均可自动进行，处理效率高，且处理效果好。

主权项：1.一种真空等离子处理系统，其特征在于，包括传送机构、等离子处理腔体、驱动机构、用于上料的第一机械手和用于下料的第二机械手，所述等离子处理腔体包括第一腔体和第二腔体，所述第一腔体设置于所述传送机构上，且所述传送机构带动所述第一腔体运动，所述第二腔体设置于所述传送机构的上方，所述驱动机构驱动所述第二腔体向第一腔体运动以实现等离子处理腔体的合体或分离。

全文数据：

权利要求：

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