申请/专利权人：光群雷射科技股份有限公司

申请日：2020-04-01

公开（公告）日：2020-09-15

公开（公告）号：CN211506165U

主分类号：G03F7/16(20060101)

分类号：G03F7/16(20060101)

优先权：

专利状态码：有效-授权

法律状态：2020.09.15#授权

摘要：本实用新型有关于一种光阻涂布装置，用以形成一光阻层于一基材上，包括一基材固持构件，用以固持一基材；一旋转构件，水平设置于基材固持构件的至少一接合部处，其中旋转构件用以转动或线性移动基材固持构件；以及一喷淋构件，设置于基材固持构件的上方，并沿一滑轨移动，用以将一光阻材料喷洒于基材以于基材上形成光阻层，其中喷淋构件的移动方向与基材固持构件的转动方向垂直或与基材固持构件的线性移动方向垂直。本实用新型的装置可于多种基材上形成光阻层，所形成的光阻层也具有较好的均匀度，且可缩短成膜时间。

主权项：1.一种光阻涂布装置，用以形成一光阻层于一基材上，其特征在于，包括：一基材固持构件，用以固持所述基材；一旋转构件，水平设置于所述基材固持构件的至少一接合部，其中所述旋转构件用以转动或线性移动所述基材固持构件；以及一喷淋构件，设置于所述基材固持构件的上方，并沿一滑轨移动，用以将一光阻材料喷洒于所述基材以于所述基材上形成所述光阻层，其中所述喷淋构件的移动方向与所述基材固持构件的转动方向垂直或与所述基材固持构件的线性移动方向垂直。

全文数据：

权利要求：

百度查询： 光群雷射科技股份有限公司 光阻涂布装置

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